加载中...
*来源于中国商标网数据,仅供参考
WEH
求购
查看报告
风险监测

监测动态

取消监测

近似商标

相同商标

风险动态

WEH

已注册

申请号: 73267103

申请日期: 2023-08-03

申请人: 日扬科技股份有限公司

国际分类: 1类-化学原料

服务项:

0101工业用氧;

0102氧化铅、工业用二氧化钛;

0104防水垢剂、吸附剂、和研磨剂配用的辅助液、化学防腐剂、防冻液、陶瓷釉、气体净化剂、吸气剂(化学活性物质)、催化剂、防污剂、制造印刷电路板用掩膜化合物、半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料、工业用废水处理化学品、光致抗蚀剂、工业用清洁剂、防垢用化学品;

0105防微生物剂;

0106科学用化学制剂(非医用、非兽医用);

0108工业用未加工塑料;

0109化学肥料;

0110防火制剂;

0111金属退火剂;

0112焊接用化学品;

0115工业用胶、工业用黏合剂、固化剂;

0116纸浆;

... 展开 收起

基本信息

商标名称 WEH
申请号 73267103 国际分类 1类-化学原料 商标分类表
商标状态 已注册 申请日期 2023-08-03
申请人 日扬科技股份有限公司 查看此申请人的商标分析报告
代理机构 北京思格颂知识产权代理有限公司 查看此代理机构下的所有商标
商标类型 普通商标 是否共有商标
专用权期限 2024-02-14至2034-02-13 国际注册日期 暂无
后期指定日期 暂无 优先权日期 暂无

商品信息

商品与服务项

【0101】工业用氧

【0102】氧化铅

【0102】工业用二氧化钛

【0104】防水垢剂

【0104】吸附剂

【0104】和研磨剂配用的辅助液

【0104】化学防腐剂

【0104】防冻液

【0104】陶瓷釉

【0104】气体净化剂

【0104】吸气剂(化学活性物质)

【0104】催化剂

【0104】防污剂

【0104】制造印刷电路板用掩膜化合物

【0104】半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料

【0104】工业用废水处理化学品

【0104】光致抗蚀剂

【0104】工业用清洁剂

【0104】防垢用化学品

【0105】防微生物剂

【0106】科学用化学制剂(非医用、非兽医用)

【0108】工业用未加工塑料

【0109】化学肥料

【0110】防火制剂

【0111】金属退火剂

【0112】焊接用化学品

【0115】工业用胶

【0115】工业用黏合剂

【0115】固化剂

【0116】纸浆

申请类似群 未申请类似群

申请人信息

申请类型 企业 地区商标 台湾商标注册
申请人名称 日扬科技股份有限公司
申请人地址 中国台湾台南市新市区***

流程信息

2025-01-02 商标异议申请-注册发文

2024-11-29 商标异议申请-裁定书发文

2024-09-06 变更商标代理人-核准通知打印发送

2024-07-24 变更商标代理人-申请收文

2024-07-08 商标异议申请-答辩抄送电子发文

2024-07-01 商标异议申请-打印异议答辩清单

2024-06-24 商标异议申请-打印答辩通知书

2024-06-20 商标异议申请-发答辩通知书发文

2024-05-19 商标异议申请-受理通知发文

2024-02-20 商标异议申请-申请收文

2023-11-13 商标注册申请-商标初步审定公告发文

2023-08-26 商标注册申请-受理通知书发文

2023-08-03 商标注册申请-申请收文

公告信息

初审公告期号 第1863期 初审公告日期 2023-11-13
注册公告期号 第1916期 注册公告日期 2024-12-21

2024-12-20 第1916期《商标注册公告(二)》

2024-09-06 第1902期《变更商标代理机构公告》

2024-05-27 第1889期《无效公告》

2024-02-13 第1875期《商标注册公告(一)》

2023-11-13 第1863期《商标初步审定公告》

现成商标  早买早用

更多