近似商标
相同商标
风险动态
KCTECH
已注册申请号: G1382936
申请日期: 2018-01-04
申请人: KC CO., LTD.
国际分类: 7类-机械设备
基本信息
| 商标名称 | KCTECH | ||
| 申请号 | G1382936 | 国际分类 | 7类-机械设备 商标分类表 |
| 商标状态 | 已注册 | 申请日期 | 2018-01-04 |
| 申请人 | KC CO., LTD. KC CO., LTD. 查看此申请人的商标分析报告 | ||
| 代理机构 | 国际局 查看此代理机构下的所有商标 | ||
| 商标类型 | 普通商标 | 是否共有商标 | 否 |
| 专用权期限 | 2017-05-22至2027-05-22 | 国际注册日期 | 暂无 |
| 后期指定日期 | 暂无 | 优先权日期 | 暂无 |
商品信息
| 商品与服务项 |
【0742】用于半导体晶片的化学机械抛光设备 【0742】用于半导体晶片的研磨机 【0744】用于半导体生产的气柜 【0744】用于半导体生产的MCVD(改进的化学汽相淀积)机器 【0744】用于半导体生产的净化器 【0744】用于半导体生产用有机发光二极管(OLED)沾湿台的沉积设备 【0744】用于半导体生产的真空泵 【0744】半导体晶片处理器支架 【0744】研究和开发用半导体加工设备 【0744】LCD(液晶显示器)产品生产设备 【0744】用于半导体生产的沉积设备 【0744】用于LCD(液晶显示器)生产的沉积设备 【0744】利用等离子体的基体表面处理设备 【0744】镨涂覆设备 【0744】半导体晶片加工机 【0744】用于生产研究和开发用半导体的湿法清洁设备 【0744】半导体加工机器 【0744】用于半导体晶片的化学机械抛光设备 【0744】用于半导体晶片的研磨机 【0744】用于生产半导体的湿法清洁设备 【0744】用于半导体晶片的清洁设备 【0744】用于半导体生产的洗涤器 【0744】用于LCD(液晶显示器)行业的清洁设备 【0744】用于LCD(液晶显示器)部件的清洁设备 【0744】用于LCD(液晶显示器)物料的清洁设备 【0744】使用二氧化碳的平板显示器清洁设备 【0749】供气阀(机器部件) 【0749】用于半导体生产的真空泵 【0752】用于生产研究和开发用半导体的湿法清洁设备 【0752】用于生产半导体的湿法清洁设备 【0752】用于半导体晶片的清洁设备 【0752】用于半导体生产的洗涤器 【0752】用于LCD(液晶显示器)行业的清洁设备 【0752】用于LCD(液晶显示器)部件的清洁设备 【0752】用于LCD(液晶显示器)物料的清洁设备 【0752】使用二氧化碳的平板显示器清洁设备 |
||
| 申请类似群 | 无 | 未申请类似群 | 无 |
申请人信息
| 申请类型 | 企业 | 地区商标 | 京畿道商标注册 |
| 申请人名称 | KC CO., LTD.(KC CO., LTD.) | ||
| 申请人地址 | 39, Je2gongdan 2-gil, Miyang-myeon, Anseong-si Gyeong***(39, Je2gongdan 2-gil, Miyang-myeon, Anseong-si Gyeonggi-do) | ||
流程信息
|
2018-10-17 领土延伸-审查 2018-07-18 国际变更-申请核准审核 2018-02-22 国际变更-申请收文 2018-01-04 领土延伸-申请收文 |
公告信息
| 初审公告期号 | 暂无 | 初审公告日期 | 暂无 |
| 注册公告期号 | 暂无 | 注册公告日期 | 暂无 |