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VEECO

待审中

申请号： G1696517

申请日期： 2022-11-17

申请人： VEECO INSTRUMENTS INC.

国际分类： 7类-机械设备

服务项：

0729用于制造的机器和设备，即物理、化学和电子技术设备和零部件、类金刚石碳系统、离子束沉积系统和离子束源、离子束蚀刻系统、物理气相沉积系统、研磨/切割系统、热沉积源、用于制造的机器和设备，即分子束外延（MBE）系统（包括组件）和金属有机化学气相沉积（MOCVD）系统（包括晶圆载体及其组件）以及晶圆加工机（包括组件）、制造机器和设备，即分子束外延（MBE）系统（包括组件）和金属有机化学气相沉积（MOCVD）系统（包括晶圆载体及其组件）、晶圆加工机;

0742用于制造的机器和设备，即物理、化学和电子技术设备和零部件、类金刚石碳系统、离子束沉积系统和离子束源、离子束蚀刻系统、物理气相沉积系统、研磨/切割系统、热沉积源、用于制造的机器和设备，即分子束外延（MBE）系统（包括组件）和金属有机化学气相沉积（MOCVD）系统（包括晶圆载体及其组件）以及晶圆加工机（包括组件）、制造机器和设备，即分子束外延（MBE）系统（包括组件）和金属有机化学气相沉积（MOCVD）系统（包括晶圆载体及其组件）、晶圆加工机;

0744用于制造的机器和设备，即物理、化学和电子技术设备和零部件、类金刚石碳系统、离子束沉积系统和离子束源、离子束蚀刻系统、物理气相沉积系统、研磨/切割系统、热沉积源、用于制造的机器和设备，即分子束外延（MBE）系统（包括组件）和金属有机化学气相沉积（MOCVD）系统（包括晶圆载体及其组件）以及晶圆加工机（包括组件）、制造机器和设备，即半导体制造机和磁存储制造机、制造机器和设备，即分子束外延（MBE）系统（包括组件）和金属有机化学气相沉积（MOCVD）系统（包括晶圆载体及其组件）、晶圆加工机、在半导体生产过程中，作为半导体制造机器的组成部分出售，在高真空条件下运行并暴露于化学品流动的加热高速旋转盘、用于半导体工业的使用蚀刻化学品的半导体单晶圆加工机、用于制造半导体晶圆片和半导体基板的光刻机及其零件、含有离子源的半导体制造机器和真空镀膜工艺的离子源控制器、使用溶剂化学品的半导体单晶圆湿法加工机、半导体晶圆加工设备、作为制造半导体和集成电路机器的组成部分出售的分子束外延坩埚和积液电池、原子层沉积系统用半导体晶圆加工机、在半导体生产过程中，在高真空条件下运行并暴露于化学品流动的加热高速旋转盘、用于包括其组件的原子层沉积系统的半导体晶圆加工机、用于制造半导体晶圆片及其他基板（包括组件）的光刻机、真空镀膜工艺用含离子源和离子源控制器的机器、用于制造半导体和集成电路的分子束外延坩埚和积液电池;

0745用于制造的机器和设备，即物理、化学和电子技术设备和零部件、类金刚石碳系统、离子束沉积系统和离子束源、离子束蚀刻系统、物理气相沉积系统、研磨/切割系统、热沉积源、由用于退火目的的激光器组成的激光退火系统，包括其部件、作为制造半导体机器的组成部分出售、用于涂覆多层光学薄膜的光学涂覆离子束机、用于制造半导体晶圆片和半导体基板的光刻机及其零件、用于涂覆多层光学薄膜（包括其组件）的光学涂覆离子束机、用于制造半导体晶圆片及其他基板（包括组件）的光刻机;

0746用于制造的机器和设备，即物理、化学和电子技术设备和零部件、类金刚石碳系统、离子束沉积系统和离子束源、离子束蚀刻系统、物理气相沉积系统、研磨/切割系统、热沉积源;

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基本信息

商标名称	VEECO
申请号	G1696517	国际分类	7类-机械设备商标分类表
商标状态	待审中	申请日期	2022-11-17
申请人	VEECO INSTRUMENTS INC. VEECO INSTRUMENTS INC. 查看此申请人的商标分析报告
代理机构	国际局查看此代理机构下的所有商标
商标类型	普通商标	是否共有商标	否
专用权期限	2022-04-06至2032-04-06	国际注册日期	暂无
后期指定日期	暂无	优先权日期	暂无

商品信息

商品与服务项

【0729】用于制造的机器和设备，即物理、化学和电子技术设备和零部件、类金刚石碳系统、离子束沉积系统和离子束源、离子束蚀刻系统、物理气相沉积系统、研磨/切割系统、热沉积源

【0729】用于制造的机器和设备，即分子束外延（MBE）系统（包括组件）和金属有机化学气相沉积（MOCVD）系统（包括晶圆载体及其组件）以及晶圆加工机（包括组件）

【0729】制造机器和设备，即分子束外延（MBE）系统（包括组件）和金属有机化学气相沉积（MOCVD）系统（包括晶圆载体及其组件）、晶圆加工机

【0742】用于制造的机器和设备，即物理、化学和电子技术设备和零部件、类金刚石碳系统、离子束沉积系统和离子束源、离子束蚀刻系统、物理气相沉积系统、研磨/切割系统、热沉积源

【0742】用于制造的机器和设备，即分子束外延（MBE）系统（包括组件）和金属有机化学气相沉积（MOCVD）系统（包括晶圆载体及其组件）以及晶圆加工机（包括组件）

【0742】制造机器和设备，即分子束外延（MBE）系统（包括组件）和金属有机化学气相沉积（MOCVD）系统（包括晶圆载体及其组件）、晶圆加工机

【0744】用于制造的机器和设备，即物理、化学和电子技术设备和零部件、类金刚石碳系统、离子束沉积系统和离子束源、离子束蚀刻系统、物理气相沉积系统、研磨/切割系统、热沉积源

【0744】用于制造的机器和设备，即分子束外延（MBE）系统（包括组件）和金属有机化学气相沉积（MOCVD）系统（包括晶圆载体及其组件）以及晶圆加工机（包括组件）

【0744】制造机器和设备，即半导体制造机和磁存储制造机

【0744】制造机器和设备，即分子束外延（MBE）系统（包括组件）和金属有机化学气相沉积（MOCVD）系统（包括晶圆载体及其组件）、晶圆加工机

【0744】在半导体生产过程中，作为半导体制造机器的组成部分出售，在高真空条件下运行并暴露于化学品流动的加热高速旋转盘

【0744】用于半导体工业的使用蚀刻化学品的半导体单晶圆加工机

【0744】用于制造半导体晶圆片和半导体基板的光刻机及其零件

【0744】含有离子源的半导体制造机器和真空镀膜工艺的离子源控制器

【0744】使用溶剂化学品的半导体单晶圆湿法加工机

【0744】半导体晶圆加工设备

【0744】作为制造半导体和集成电路机器的组成部分出售的分子束外延坩埚和积液电池

【0744】原子层沉积系统用半导体晶圆加工机

【0744】在半导体生产过程中，在高真空条件下运行并暴露于化学品流动的加热高速旋转盘

【0744】用于包括其组件的原子层沉积系统的半导体晶圆加工机

【0744】用于制造半导体晶圆片及其他基板（包括组件）的光刻机

【0744】真空镀膜工艺用含离子源和离子源控制器的机器

【0744】用于制造半导体和集成电路的分子束外延坩埚和积液电池

【0745】用于制造的机器和设备，即物理、化学和电子技术设备和零部件、类金刚石碳系统、离子束沉积系统和离子束源、离子束蚀刻系统、物理气相沉积系统、研磨/切割系统、热沉积源

【0745】由用于退火目的的激光器组成的激光退火系统，包括其部件

【0745】作为制造半导体机器的组成部分出售、用于涂覆多层光学薄膜的光学涂覆离子束机

【0745】用于制造半导体晶圆片和半导体基板的光刻机及其零件

【0745】用于涂覆多层光学薄膜（包括其组件）的光学涂覆离子束机

【0745】用于制造半导体晶圆片及其他基板（包括组件）的光刻机

【0746】用于制造的机器和设备，即物理、化学和电子技术设备和零部件、类金刚石碳系统、离子束沉积系统和离子束源、离子束蚀刻系统、物理气相沉积系统、研磨/切割系统、热沉积源

申请类似群

无

未申请类似群

无

申请人信息

申请类型	企业	地区商标	纽约商标注册
申请人名称	VEECO INSTRUMENTS INC.(VEECO INSTRUMENTS INC.)
申请人地址	1 Terminal Drive Plainview NY ***(1 Terminal Drive Plainview NY 11803)