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制造磁隧道结装置的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201910404401.6
  • IPC分类号:H01L43/12
  • 申请日期:
    2019-05-16
  • 申请人:
    三星电子株式会社
著录项信息
专利名称制造磁隧道结装置的方法
申请号CN201910404401.6申请日期2019-05-16
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2019-11-26公开/公告号CN110504356A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L43/12IPC分类号H;0;1;L;4;3;/;1;2查看分类表>
申请人三星电子株式会社申请人地址
韩国京畿道水原市 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人三星电子株式会社当前权利人三星电子株式会社
发明人金晥均;卢恩仙;李俊明;林佑昶;郑峻昊
代理机构北京铭硕知识产权代理有限公司代理人刘灿强;尹淑梅
摘要
提供了一种制造磁隧道结(MTJ)装置的方法。所述方法包括以下步骤:在基底上方形成自由磁性层、在自由磁性层上方形成金属层以及通过在250K或更低的温度下将金属层暴露于氧化气体来对金属层进行氧化。

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