一种适用于高温高湿度环境的低温等离子体除臭装置

实用新型专利有效专利

申请号：
CN202022306869.2
IPC分类号：B01D53/32;B01D46/00;B01D46/12;B01D53/04;B01D53/26;A61L9/22;F28D9/00
申请日期：
2020-10-16
申请人：
沈阳工业大学

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著录项信息

专利名称	一种适用于高温高湿度环境的低温等离子体除臭装置
申请号	CN202022306869.2	申请日期	2020-10-16
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B01D53/32 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B0 分离；混合 B01 一般的物理或化学的方法或装置 B01D 分离（用湿法从固体中分离固体入B03B、B03D，用风力跳汰机或摇床入B03B，用其他干法入B07；固体物料从固体物料或流体中的磁或静电分离，利用高压电场的分离入B03C；离心机、涡旋装置入B04B；涡旋装置入B04C；用于从含液物料中挤出液体的压力机本身入B30B 9/02）〔5〕 B01D53/00 气体或蒸气的分离；从气体中回收挥发性溶剂的蒸气；废气例如发动机废气、烟气、烟雾、烟道气或气溶胶的化学或生物净化（通过冷凝作用回收挥发性溶剂入B01D 5/00；升华入B01D 7/00；冷凝阱，冷挡板入B01D 8/00；难凝聚的气体和空气用液化方法分离入F25J 3/00）〔3，5〕 B01D53/32 用与B01D 61/00组的方法不同的电效应〔5〕	IPC分类号	B;0;1;D;5;3;/;3;2;;;B;0;1;D;4;6;/;0;0;;;B;0;1;D;4;6;/;1;2;;;B;0;1;D;5;3;/;0;4;;;B;0;1;D;5;3;/;2;6;;;A;6;1;L;9;/;2;2;;;F;2;8;D;9;/;0;0查看分类表>
申请人	沈阳工业大学	申请人地址	辽宁省沈阳市铁西区经济技术开发区沈辽西路111号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	沈阳工业大学	当前权利人	沈阳工业大学
发明人	沈欣军;周伟;梁旭;朱礼想;王梓鑫
代理机构	沈阳智龙专利事务所（普通合伙）	代理人	宋铁军

摘要

本实用新型公开了种适用于高温高湿度环境的低温等离子体除臭装置，包括处理框架，所述处理框架内依次设有降温段、干燥段、初级过滤段、低温等离子体处理段和末端过滤段；所述处理框架的两端分别开设有进风口和出风口，且处理框架接通离心风机。通过自制的板式换热器，分隔恶臭气体与冷却水，可以使二者在不接触的情况下，降低恶臭气体的温度，并且可以降低等离子体反应管内部温度，避免高温使得反应器发生爆炸，伤害工作人员。除臭工艺的等离子体处理段，管式DBD与沿面式SDBD相结合，从传统的管内产生等离子体，发展到管内以及管外同时产生等离子体，增大了处理量，可以更加高效的处理恶臭物质。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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