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一种光刻胶的清洗液

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201010234683.9
  • IPC分类号:G03F7/42
  • 申请日期:
    2010-07-23
  • 申请人:
    安集微电子(上海)有限公司
著录项信息
专利名称一种光刻胶的清洗液
申请号CN201010234683.9申请日期2010-07-23
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2012-02-01公开/公告号CN102338994A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/42IPC分类号G;0;3;F;7;/;4;2查看分类表>
申请人安集微电子(上海)有限公司申请人地址
上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人安集微电子(上海)有限公司当前权利人安集微电子(上海)有限公司
发明人刘兵;彭洪修;孙广胜
代理机构上海翰鸿律师事务所代理人李佳铭
摘要
本发明公开了一种低蚀刻性的适用于较厚光刻胶清洗的清洗液。这种低蚀刻性的光刻胶清洗液含有(a)氢氧化钾,(b)吡咯烷酮类溶剂,(c)季戊四醇,(d)醇胺,(e)间苯二酚。这种低蚀刻性的光刻胶清洗剂可以用于除去金属、金属合金或电介质基材上的光刻胶和其它残留物,同时对于Cu(铜)等金属具有较低的蚀刻速率,在半导体晶片清洗等微电子领域具有良好的应用前景。

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