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一种阵列基板及其制备方法、显示面板

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201710149453.4
  • IPC分类号:H01L27/12;H01L21/77
  • 申请日期:
    2017-03-14
  • 申请人:
    京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
著录项信息
专利名称一种阵列基板及其制备方法、显示面板
申请号CN201710149453.4申请日期2017-03-14
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2017-07-07公开/公告号CN106935597A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/12IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;1;2;;;H;0;1;L;2;1;/;7;7查看分类表>
申请人京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司申请人地址
北京市朝阳区酒仙桥路10号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司当前权利人京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司
发明人贵炳强;曲连杰;齐永莲;赵合彬;邱云
代理机构北京中博世达专利商标代理有限公司代理人申健
摘要
本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板,涉及显示技术领域,可减小透明导电层与有源层之间的寄生电容。所述阵列基板,包括:衬底、设置在所述衬底上的薄膜晶体管,还包括设置在所述薄膜晶体管远离所述衬底一侧的包括第一镂空部分的公共电极;所述薄膜晶体管的有源层包括源电极区、漏电极区和沟道区,所述第一镂空部分在所述衬底上的正投影至少覆盖所述沟道区在所述衬底上的正投影。

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