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光吸收层形成用涂布液及光吸收层形成用涂布液的制造方法

发明专利无效专利

申请号：
CN201280027751.1
IPC分类号：H01L31/032;H01L31/0749
申请日期：
2012-06-08
申请人：
东京应化工业株式会社

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	光吸收层形成用涂布液及光吸收层形成用涂布液的制造方法
申请号	CN201280027751.1	申请日期	2012-06-08
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2014-02-19	公开/公告号	CN103597605A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L31/032 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L31/00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或设备；其零部件（H01L 51/42优先；由形成在一共用衬底内或其上的多个固态组件，而不是辐射敏感元件与一个或多个电光源的结合所组成的器件入H01L 27/00）〔2，6，8〕 H01L31/0248 以其半导体本体为特征的〔5〕 H01L31/0256 以材料为特征的〔5〕 H01L31/0264 无机材料〔5〕 H01L31/032 除掺杂或其他杂质外，只包含未列入H01L 31/0272至H01L 31/0312各组的化合物〔5〕	IPC分类号	H;0;1;L;3;1;/;0;3;2;;;H;0;1;L;3;1;/;0;7;4;9查看分类表>
申请人	东京应化工业株式会社	申请人地址	日本神奈川县变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	东京应化工业株式会社	当前权利人	东京应化工业株式会社
发明人	桑原大;三隅浩一;宫本英典
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	蒋亭

摘要

一种光吸收层形成用涂布液，其是用于形成铜锌锡硫(CZTS)系太阳能电池的光吸收层的涂布液，其是使(A)肼配位Cu硫属化物络合物成分、(B)肼配位Sn硫属化物络合物成分和(C)肼配位Zn硫属化物络合物成分溶解于二甲基亚砜而成的。

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