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VB族元素掺杂CaCu3Ti4O12基压敏材料及制备方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201010223379.4
  • IPC分类号:C04B35/462;C04B35/622
  • 申请日期:
    2010-07-08
  • 申请人:
    桂林理工大学
著录项信息
专利名称VB族元素掺杂CaCu3Ti4O12基压敏材料及制备方法
申请号CN201010223379.4申请日期2010-07-08
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2010-11-10公开/公告号CN101880159A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C04B35/462IPC分类号C;0;4;B;3;5;/;4;6;2;;;C;0;4;B;3;5;/;6;2;2查看分类表>
申请人桂林理工大学申请人地址
广西壮族自治区桂林市建干路12号桂林理工大学 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人桂林理工大学当前权利人桂林理工大学
发明人刘来君;吴枚霞;方亮;杨曌;胡长征
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本发明公开了一种VB族元素掺杂CaCu3Ti4O12基压敏材料及制备方法。其化学组成通式为:CaCu3Ti4-xBxO12,其中:B为化学元素周期表中VB族元素的一种或者几种的组合,x=0.001~1。将碳酸钙、氧化铜、五氧化二钒、五氧化二铌、五氧化二钽,按化学计量比CaCu3Ti4-xBxO12(x=0.001~1;B为化学元素周期表中VB族元素的一种或者几种的组合)配料,经过球磨、煅烧、二次球磨、造粒、成型、排胶、高温烧结等工序,最终制备具有高介电常数和高压敏特性的钙铜钛氧基陶瓷。本发明通过采用了+5价元素部分取代+4价钛元素,补偿了烧结过程中铜离子和钛离子的化合价变化,导致电压梯度低和漏电流大。降低了材料的本征电导,提高了材料的电压梯度。

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