永久磁铁薄膜及其制造方法

发明专利无效专利

申请号：
CN01800274.9
IPC分类号：H01F10/14;H01F10/30
申请日期：
2001-02-21
申请人：
住友特殊金属株式会社

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	永久磁铁薄膜及其制造方法
申请号	CN01800274.9	申请日期	2001-02-21
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2002-08-07	公开/公告号	CN1363101
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01F10/14 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01F 磁体；电感；变压器；磁性材料的选择〔2〕 H01F10/00 磁性薄膜，如单畴结构的 H01F10/08 按磁层的特性区分的（在基底上施加磁性膜入H01F 41/14）〔3〕 H01F10/10 按成分区分的〔3〕 H01F10/12 是金属或合金〔3〕 H01F10/14 含有铁或镍的（H01F 10/13，H01F 10/16优先）〔3，7〕	IPC分类号	H;0;1;F;1;0;/;1;4;;;H;0;1;F;1;0;/;3;0查看分类表>
申请人	住友特殊金属株式会社	申请人地址	日本大阪变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	株式会社新王磁材	当前权利人	株式会社新王磁材
发明人	上原稔
代理机构	北京纪凯知识产权代理有限公司	代理人	龙淳

摘要

在基板上形成高熔点金属层2、4、6、8、和10以及稀土合金磁性层3、5、7、9、11和12交互层叠的4层以上的层叠结构。高熔点金属层2、4、6、8、10由选自Ti、V、Cr、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta和W中的至少一种材料形成，具有5nm以上、50nm以下的厚度。稀土合金磁性层3、5、7、9、11和12的主构成相是正方晶R2Fe14B(R是Nd和/或Pr)，具有50nm以上、500nm以下的厚度。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供