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曝光装置及曝光方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201711449976.7
  • IPC分类号:G03F7/24
  • 申请日期:
    2014-03-26
  • 申请人:
    株式会社尼康
著录项信息
专利名称曝光装置及曝光方法
申请号CN201711449976.7申请日期2014-03-26
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2018-06-29公开/公告号CN108227408A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/24IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;4查看分类表>
申请人株式会社尼康申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人株式会社尼康当前权利人株式会社尼康
发明人加藤正纪
代理机构北京市金杜律师事务所代理人陈伟;王娟娟
摘要
提供一种能够以高生产性来生产高质量基板的基板处理装置、器件制造方法以及光罩。具备:光罩支承部件,其在照明区域内以沿着按规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式支承光罩的图案;基板支承部件,其在投影区域内以沿着规定的第二面的方式支承所述基板;以及驱动机构,其以使光罩的图案向规定的扫描曝光方向移动的方式使光罩支承部件旋转,且以使基板向扫描曝光方向移动的方式使基板支承部件移动,光罩支承部件在将第一面的直径设为φ、将第一面在与扫描曝光方向正交的方向上的长度设为L的情况下,满足1.3≤L/φ≤3.8。

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