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制作电光器件的方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200510056333.7
  • IPC分类号:--
  • 申请日期:
    2000-06-03
  • 申请人:
    株式会社半导体能源研究所
著录项信息
专利名称制作电光器件的方法
申请号CN200510056333.7申请日期2000-06-03
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2005-08-31公开/公告号CN1661651
优先权暂无优先权号暂无
主分类号暂无IPC分类号暂无查看分类表>
申请人株式会社半导体能源研究所申请人地址
日本神奈川县厚木市 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人株式会社半导体能源研究所当前权利人株式会社半导体能源研究所
发明人山崎舜平;小山润;山本一宇;小沼利光
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人刘杰
摘要
本发明的目的在于提供一种用于制作电光器件的方法,包括:在一个绝缘表面上形成具有多栅极结构的开关薄膜晶体管;在所述开关薄膜晶体管上形成一个钝化膜;在所述钝化膜上形成一个阳极,所述阳极电连接到所述开关薄膜晶体管;通过喷墨法在所述阳极上形成一个EL层;以及在所述EL层上形成一个阴极。

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