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用于确定局部线圈位置的方法和控制装置

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200610159879.X
  • IPC分类号:A61B5/055
  • 申请日期:
    2006-11-02
  • 申请人:
    西门子公司
著录项信息
专利名称用于确定局部线圈位置的方法和控制装置
申请号CN200610159879.X申请日期2006-11-02
法律状态权利终止申报国家暂无
公开/公告日2007-05-09公开/公告号CN1959428
优先权暂无优先权号暂无
主分类号A61B5/055IPC分类号A;6;1;B;5;/;0;5;5查看分类表>
申请人西门子公司申请人地址
德国慕尼黑 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人西门子公司当前权利人西门子公司
发明人斯文·坎佩格纳
代理机构北京市柳沈律师事务所代理人邵亚丽;李晓舒
摘要
本发明涉及一种在磁共振断层造影装置(3)内的至少一个空间方向(z)上确定局部线圈(4,4’)在卧榻(2)上的位置(Ps)的方法,其中,从利用所涉及的局部线圈(4,4’)进行的用于拍摄检查对象(O)的磁共振图像和/或用于在卧榻(2)对断层造影装置(3)的不同位置上测量其它系统参数的磁共振测量中提取信号强度值(I);确定提取的信号强度值(I)与卧榻(2)相对于断层造影装置(3)的位置(PT)的函数相关性;最后,基于所确定的函数相关性来确定局部线圈(4,4’)在卧榻(2)上的位置(Ps)。此外本发明还涉及一种相应的用于磁共振系统的控制装置(6),用于确定局部线圈(4)在卧榻(2)上的位置(Ps)。

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