首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据，仅供参考，实际以国家知识产权局展示为准

新共聚物及光致抗蚀组合物

发明专利无效专利

申请号：
CN02806936.6
IPC分类号：G03F7/039;C08F20/00
申请日期：
2002-02-25
申请人：
希普雷公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	新共聚物及光致抗蚀组合物
申请号	CN02806936.6	申请日期	2002-02-25
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2004-05-19	公开/公告号	CN1498361
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/039 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/004 感光材料（G03F 7/12，G03F 7/14优先）〔5〕 G03F7/039 可光降解的高分子化合物，例如，正电子抗蚀剂（G03F 7/075优先；高分子苯醌重氮化合物入G03F 7/023）〔5〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;0;3;9;;;C;0;8;F;2;0;/;0;0查看分类表>
申请人	希普雷公司	申请人地址	美国马萨诸塞变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	希普雷公司	当前权利人	希普雷公司
发明人	G·G·巴克雷;R·J·卡瓦纳
代理机构	上海专利商标事务所有限公司	代理人	余颍

摘要

本发明包括聚合物和以该聚合物作为树脂基料成分的光致抗蚀组合物。本发明聚合物包含羟金刚烷基官能度。本发明光致抗蚀剂包括可在短波长如亚-200纳米，特别是193纳米辐射下有效成象的化学放大正型抗蚀剂。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供