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抗蚀剂下层膜形成用组合物和使用其的抗蚀剂图案的形成方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201480052938.6
  • IPC分类号:G03F7/11;C08G59/42
  • 申请日期:
    2014-09-22
  • 申请人:
    日产化学工业株式会社
著录项信息
专利名称抗蚀剂下层膜形成用组合物和使用其的抗蚀剂图案的形成方法
申请号CN201480052938.6申请日期2014-09-22
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2016-05-11公开/公告号CN105579909A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/11IPC分类号G;0;3;F;7;/;1;1;;;C;0;8;G;5;9;/;4;2查看分类表>
申请人日产化学工业株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人日产化学工业株式会社当前权利人日产化学工业株式会社
发明人西田登喜雄;大西龙慈;藤谷德昌;坂本力丸
代理机构北京市中咨律师事务所代理人孙丽梅;段承恩
摘要
本发明的课题是提供新的光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物。本发明的解决方法是一种光刻用抗蚀剂下层膜形成用组合物,包含聚合物、交联剂、促进交联反应的化合物和有机溶剂,所述聚合物在聚合物链的末端具有下述式(1)所表示的结构。(式(1)中,R1、R2和R3分别独立地表示氢原子、碳原子数1~13的直链状或支链状的烷基、卤代基或羟基,前述R1、R2和R3中至少1个表示前述烷基,Ar表示苯环、萘环或蒽环,2个羰基分别与前述Ar所表示的环的相邻的2个碳原子结合,X表示可以具有碳原子数1~3的烷氧基作为取代基的碳原子数1~6的直链状或支链状的烷基。)。

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