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透镜阵列、透镜阵列的制造方法及光学元件的制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201380017505.2
  • IPC分类号:G02B3/00;G02B3/02;G02B3/04;G02B3/08;G02B5/18
  • 申请日期:
    2013-03-20
  • 申请人:
    柯尼卡美能达株式会社
著录项信息
专利名称透镜阵列、透镜阵列的制造方法及光学元件的制造方法
申请号CN201380017505.2申请日期2013-03-20
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2014-12-10公开/公告号CN104204865A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B3/00IPC分类号G;0;2;B;3;/;0;0;;;G;0;2;B;3;/;0;2;;;G;0;2;B;3;/;0;4;;;G;0;2;B;3;/;0;8;;;G;0;2;B;5;/;1;8查看分类表>
申请人柯尼卡美能达株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人柯尼卡美能达株式会社当前权利人柯尼卡美能达株式会社
发明人藤本章弘;新井启司
代理机构北京市柳沈律师事务所代理人张涛
摘要
本发明提供一种能够以低成本大量生产光学元件的透镜阵列、透镜阵列的制造方法及光学元件的制造方法。透镜阵列具备排列成阵列状的多个透镜部,且具备将多个透镜部和包围各透镜部的周围的凹部一体成形的树脂制透镜层、和与透镜层可拆装地接合的粘接片材,透镜层能够以凹部为界而分别脱离的状态下被接合于粘接片材。

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