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一种篆刻工作台

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN202122827589.0
  • IPC分类号:B44B11/02
  • 申请日期:
    2021-11-18
  • 申请人:
    中国美术学院
著录项信息
专利名称一种篆刻工作台
申请号CN202122827589.0申请日期2021-11-18
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B44B11/02IPC分类号B;4;4;B;1;1;/;0;2查看分类表>
申请人中国美术学院申请人地址
浙江省杭州市上城区南山路218号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国美术学院当前权利人中国美术学院
发明人朱雨楠
代理机构杭州云睿专利代理事务所(普通合伙)代理人杨淑芳
摘要
本实用新型公开了一种篆刻工作台,包括篆刻桌台,所述篆刻桌台的表面嵌设安装有清洗池,所述篆刻桌台的表面位于清洗池的一侧嵌设安装有收集池,所述收集池的上端口嵌入安装有篆刻板块,所述篆刻桌台的上表面位于篆刻板块的一侧固定安装有分流盒,所述篆刻桌台的上表面位于清洗池的后方固定安装有水龙头。本实用新型所述的一种篆刻工作台,能够对篆刻板块表面上的灰尘进行快捷的清洗,以快速进入下一个篆刻工序,提高工作速度,并能使得篆刻板块针对一些大型的物质清理起来也更加的方便快捷,从而使得该篆刻桌子使用起来更加的方便,适应性能更好,也便于使用者对工具和篆刻后手的清洗。

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