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一种激光束直写构造图形化磁性微纳结构的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201510198408.9
  • IPC分类号:B81C1/00;C23C14/35
  • 申请日期:
    2015-04-17
  • 申请人:
    温州大学
著录项信息
专利名称一种激光束直写构造图形化磁性微纳结构的方法
申请号CN201510198408.9申请日期2015-04-17
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2015-11-11公开/公告号CN105036057A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B81C1/00IPC分类号B;8;1;C;1;/;0;0;;;C;2;3;C;1;4;/;3;5查看分类表>
申请人温州大学申请人地址
浙江省温州市瓯海经济开发区东方南路38号温州市国家大学科技园孵化器007信箱 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人温州大学当前权利人温州大学
发明人曹宇;李春林;魏鑫磊;何安;张健;朱德华;冯爱新
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本发明提供了一种激光束直写构造图形化磁性微纳结构的方法,包括如下步骤:(1)在基板表面至少平铺一层以上的磁性材料颗粒,之后施加可控磁场,使得磁性材料颗粒在基板表面按照磁场的磁力线有序排列;(2)利用激光束从基板的背面一侧入射扫描,激光束辐照处吸收激光能量而发生极速升温,使得基板背面被辐照的区域不发生熔化或薄层熔化;对应基板正面的磁性材料颗粒表面部分熔化,冷却后实现磁性材料颗粒与基板的焊接;(3)重复步骤(1)‑(2),实现多层、不同尺寸、有序的磁性微纳结构制备。该方法实现了图形化磁性微纳结构的制造,由于微纳结构的尺寸和图形可控,从而可以调控其表面超疏水、电磁波吸收和反射特性。

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