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分段曝光成像自动曝光调节方法及系统

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201810042123.X
  • IPC分类号:H04N5/235;H04N5/353;H04N5/355
  • 申请日期:
    2018-01-16
  • 申请人:
    思特威电子科技(开曼)有限公司
著录项信息
专利名称分段曝光成像自动曝光调节方法及系统
申请号CN201810042123.X申请日期2018-01-16
法律状态授权申报国家暂无
公开/公告日2018-06-29公开/公告号CN108234895A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H04N5/235IPC分类号H;0;4;N;5;/;2;3;5;;;H;0;4;N;5;/;3;5;3;;;H;0;4;N;5;/;3;5;5查看分类表>
申请人思特威电子科技(开曼)有限公司申请人地址
江苏省苏州市昆山市锦溪镇锦顺路338号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人昆山晔芯电子科技有限公司当前权利人昆山晔芯电子科技有限公司
发明人邵科;马伟剑
代理机构上海汉声知识产权代理有限公司代理人胡晶
摘要
本发明提出一种分段曝光成像自动曝光调节方法及系统,该方法包括:针对曝光过程中的第一曝光段和第二曝光段,设置第一曝光段的时间T1和两段曝光段的总时间T的初始值;统计图像的平均亮度Ya、非过曝区域占图像的比例K%及非过曝区域的平均亮度Yk;将非过曝区域的平均亮度Yk与目标亮度值范围进行比较,根据比较结果调整总时间T;将非过曝区域占图像的比例K%与过曝比beta%进行比较:若K%大于beta%,则将图像的平均亮度Ya与目标亮度值范围进行比较,根据比较结果继续调整总时间T;否则,将图像的平均亮度Ya与目标亮度值范围进行比较,根据比较结果调整时间T1。本发明的分段曝光成像自动曝光调节方法及系统,防止过曝,提升图像整体对比度。

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