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应变硅基板的制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200780046521.9
  • IPC分类号:H01L21/205;H01L21/02;H01L27/12
  • 申请日期:
    2007-11-29
  • 申请人:
    信越半导体股份有限公司
著录项信息
专利名称应变硅基板的制造方法
申请号CN200780046521.9申请日期2007-11-29
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2009-10-14公开/公告号CN101558474
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/205IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;2;0;5;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;;;H;0;1;L;2;7;/;1;2查看分类表>
申请人信越半导体股份有限公司申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人信越半导体股份有限公司当前权利人信越半导体股份有限公司
发明人冈哲史;能登宣彦
代理机构隆天国际知识产权代理有限公司代理人姜燕;陈晨
摘要
本发明是提供一种应变硅基板的制造方法,是至少在硅单晶基板上,先形成晶格弛豫的硅锗层,并通过化学机械研磨将该硅锗层的表面平坦化,而在该平坦化后的硅锗层的表面上形成应变硅层的应变硅基板的制造方法,其特征在于:在上述平坦化后的晶格弛豫硅锗层的表面上,形成应变硅层之前,SC1洗净该硅锗层的表面,并在800℃以上的含氢环境中,热处理具有上述SC1洗净后的硅锗层的上述基板,且在该热处理后未降温至低于800℃的温度而是立刻在上述热处理过后的基板上的硅锗层表面,形成保护硅层,并以比该保护硅层的形成温度低的温度,在该保护硅层的表面上形成应变硅层。由此,提供一种应变硅基板的制造方法,该应变硅基板的制造方法,能够制造出一种表面粗糙度、贯穿位错密度及微粒程度低的应变硅基板。

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