高纯度镧的制造方法、高纯度镧、包含高纯度镧的溅射靶和以高纯度镧作为主要成分的金属栅膜

发明专利有效专利

申请号：
CN201180055511.8
IPC分类号：C22B59/00;C22B5/04;C22B9/22;C23C14/14;C23C14/34;C22C28/00
申请日期：
2011-11-14
申请人：
吉坤日矿日石金属株式会社

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著录项信息

专利名称	高纯度镧的制造方法、高纯度镧、包含高纯度镧的溅射靶和以高纯度镧作为主要成分的金属栅膜
申请号	CN201180055511.8	申请日期	2011-11-14
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2013-07-24	公开/公告号	CN103221560A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C22B59/00 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C22 冶金；黑色或有色金属合金；合金或有色金属的处理 C22B 金属的生产或精炼（金属粉末或其悬浮物的制取入B22F 9/00；电解法或电泳法生产金属入C25）；原材料的预处理 C22B59/00 稀土金属的提取	IPC分类号	C;2;2;B;5;9;/;0;0;;;C;2;2;B;5;/;0;4;;;C;2;2;B;9;/;2;2;;;C;2;3;C;1;4;/;1;4;;;C;2;3;C;1;4;/;3;4;;;C;2;2;C;2;8;/;0;0查看分类表>
申请人	吉坤日矿日石金属株式会社	申请人地址	日本东京变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	捷客斯金属株式会社	当前权利人	捷客斯金属株式会社
发明人	高畑雅博;乡原毅
代理机构	中原信达知识产权代理有限责任公司	代理人	王海川;穆德骏

摘要

一种除了镧以外的稀土元素和气体成分以外具有4N以上的纯度的高纯度镧的制造方法，其特征在于，利用蒸馏钙将除了镧以外的稀土元素和气体成分以外的纯度为4N以上的氟化镧原料还原而制作纯度4N以上的镧，并进行电子束熔炼而除去挥发性物质。所述高纯度镧的制造方法，其特征在于，将Al、Fe、Cu各自调节为10重量ppm以下。所述高纯度镧的制造方法，其特征在于，将气体成分以总量计调节为1000重量ppm以下。本发明的课题在于提供能够高效且稳定地提供高纯度镧、包含高纯度镧的溅射靶和以高纯度镧作为主要成分的金属栅用薄膜的技术。

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