本底硅的测量方法

发明专利有效专利

申请号：
CN200810115658.1
IPC分类号：G01N21/78;G01N21/27
申请日期：
2008-06-26
申请人：
北京华科仪电力仪表研究所

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	本底硅的测量方法
申请号	CN200810115658.1	申请日期	2008-06-26
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2009-04-08	公开/公告号	CN101403700
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01N21/78 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01N （除免疫测定法以外包括酶或微生物的测量或试验入C12M，C12Q） G01N21/00 利用光学手段，即利用红外光、可见光；或紫外光来测试或分析材料（G01N 3/00至G01N 19/00优先） G01N21/75 材料在其中经受化学反应的系统，测试反应的进行或结果（材料在火焰或等离子体中燃烧的装置入G01N 21/72，G01N 21/73）〔3〕 G01N21/77 观察对化学指示剂的作用〔3〕 G01N21/78 产生颜色变化〔3〕	IPC分类号	G;0;1;N;2;1;/;7;8;;;G;0;1;N;2;1;/;2;7查看分类表>
申请人	北京华科仪电力仪表研究所	申请人地址	北京市大兴区西红门镇金业大街10号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	北京华科仪科技股份有限公司	当前权利人	北京华科仪科技股份有限公司
发明人	陈云龙
代理机构	北京汇泽知识产权代理有限公司	代理人	徐乐慧;张瑾

摘要

本发明公开了一种本底硅的测量方法，其步骤包括：进行零点值测量，用倒加药得显色溶液，零点值的显色溶液的硅浓度为0，电压值V0；配制两种不同浓度的标准溶液，即标液1、标液2，溶液浓度分别为C1、C2；标液1、标液2分别作显色操作，再根据光电比色原理进行测量，并分别测量电压值V1、V2；经过计算，得出本底硅的浓度为X。用于测量的仪器为光度计，显色溶液中二氧化硅浓度越高，所测得的电压值越低。用此方法能够较精准地测量出无硅水中本底硅的浓度，精确了已知浓度二氧化硅的标准溶液的实际浓度，在二氧化硅浓度分析中对二氧化硅含量测得的结果更为精确；且本方法操作简单，精确度高。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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