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用于处理多孔基片上的样品的方法和系统

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201080054714.0
  • IPC分类号:G01N35/10;B01L3/00;G01N1/38
  • 申请日期:
    2010-11-30
  • 申请人:
    沃特曼国际有限公司
著录项信息
专利名称用于处理多孔基片上的样品的方法和系统
申请号CN201080054714.0申请日期2010-11-30
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2012-10-17公开/公告号CN102741697A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01N35/10IPC分类号G;0;1;N;3;5;/;1;0;;;B;0;1;L;3;/;0;0;;;G;0;1;N;1;/;3;8查看分类表>
申请人沃特曼国际有限公司申请人地址
英国肯特郡 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人沃特曼国际有限公司当前权利人沃特曼国际有限公司
发明人P.A.肖梅克;W.B.格里芬;E.J.法恩豪特;X.王;K.A.谢克;G.D.戈达德
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人肖日松;傅永霄
摘要
用于处理固定于多孔基片的样品的方法和系统,其通常包括:压缩机,其限定一个或多个流体隔离区域;用于多孔基片的支撑件,其具有与压缩机的流体隔离区域中的一个或多个对应的开口;致动器,其使压缩机的至少一部分压靠多孔基片;流体入口,其至少在压缩机压靠多孔基片时通向流体隔离区域;和流体出口,其至少在压缩机压靠多孔基片时通过与压缩机的流体隔离区域对应的支撑件中的开口接收流体。

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