一种投影物镜光学系统

发明专利有效专利

申请号：
CN201210091295.9
IPC分类号：G02B13/18;G02B13/14;G02B13/22
申请日期：
2012-03-31
申请人：
上海微电子装备有限公司

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著录项信息

专利名称	一种投影物镜光学系统
申请号	CN201210091295.9	申请日期	2012-03-31
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2013-10-23	公开/公告号	CN103364928A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02B13/18 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02B 光学元件、系统或仪器（G02F优先；专用于照明装置或系统的光学元件入F21V 1/00至F21V 13/00；测量仪器见G01类的有关小类，例如，光学测距仪入G01C；光学元件、系统或仪器的测试入G01M 11/00；眼镜入G02C；摄影、放映或观看用的装置或设备入G03B；声透镜入G10K 11/30；电子和离子“光学”入H01J；X射线“光学”入H01J，H05G 1/00；结构上与放电管相组合的光学元件入H01J 5/16，H01J 29/89，H01J 37/22；微波“光学”入H01Q；光学元件与电视接收机的组合装置入H04N 5/72；彩色电视系统中的光学系统或装置入H04N 9/00；专门适用于透明或反射区的加热装置入H05B 3/84）〔1，7〕 G02B13/00 为下述用途专门设计的光学物镜（有可变放大率的入G02B 15/00） G02B13/18 采用具有一个或多个非球面的透镜，例如，用于减少几何象差	IPC分类号	G;0;2;B;1;3;/;1;8;;;G;0;2;B;1;3;/;1;4;;;G;0;2;B;1;3;/;2;2查看分类表>
申请人	上海微电子装备有限公司	申请人地址	上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	上海微电子装备（集团）股份有限公司	当前权利人	上海微电子装备（集团）股份有限公司
发明人	孙文凤
代理机构	北京连和连知识产权代理有限公司	代理人	王光辉

摘要

一种投影物镜光学系统，从物面到像面依次包括：第一透镜组，其光焦度为正；第二透镜组，其光焦度为负；第三透镜组，其光焦度为正；第四透镜组，其光焦度为负；第五透镜组，其光焦度为正；以及光阑，位于第五透镜组之间；其特征在于，该投影物镜系统的有效焦距f、该物面至像面的距离L满足以下条件：。本发明的投影物镜应用在光刻机系统中可以降低场曲对焦深的损失，同时提高球差波像差，减少波像差恶化导致的曝光图形的成像质量的损失。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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该专利没有被任何外部专利所引用！

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