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带有集成箝位电路的累积型场效应管

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201110320036.4
  • IPC分类号:H01L27/02;H01L21/335
  • 申请日期:
    2011-10-11
  • 申请人:
    万国半导体股份有限公司
著录项信息
专利名称带有集成箝位电路的累积型场效应管
申请号CN201110320036.4申请日期2011-10-11
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2012-05-23公开/公告号CN102468298A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/02IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;0;2;;;H;0;1;L;2;1;/;3;3;5查看分类表>
申请人万国半导体股份有限公司申请人地址
美国加利福尼亚桑尼维尔奥克米德公园道475号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人万国半导体股份有限公司当前权利人万国半导体股份有限公司
发明人伍时谦;安荷·叭剌;王晓彬
代理机构上海信好专利代理事务所(普通合伙)代理人张静洁;徐雯琼
摘要
本发明提出了一种场效应管,它包括具有栅极、源极和漏极区的半导体衬底;以及形成在半导体衬底上的一个p-n结,p-n结与栅极、漏极和源极区电连接,以获得所需的击穿电压。在一个实施例中,栅极区还包括多个空间分离的沟槽栅极,p-n结由外延层和带有金属化层界面之间的交界面限定。击穿电压在一定程度上由所形成的p-n结的数量所决定。在另一个实施例中,通过在位于沟槽栅极附近的外延层区域中,制备多个空间分离的p-型区,形成p-n结。

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