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射线探测基板、射线成像设备和曝光时长确定方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110480884.5
  • IPC分类号:G01T1/02;G01T7/00
  • 申请日期:
    2021-04-30
  • 申请人:
    北京京东方传感技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司
著录项信息
专利名称射线探测基板、射线成像设备和曝光时长确定方法
申请号CN202110480884.5申请日期2021-04-30
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-08-03公开/公告号CN113204043A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01T1/02IPC分类号G;0;1;T;1;/;0;2;;;G;0;1;T;7;/;0;0查看分类表>
申请人北京京东方传感技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司申请人地址
北京市北京经济技术开发区西环中路8号2幢C区3层C-301、C-302 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人北京京东方传感技术有限公司,京东方科技集团股份有限公司当前权利人北京京东方传感技术有限公司,京东方科技集团股份有限公司
发明人庞凤春;侯学成
代理机构北京天昊联合知识产权代理有限公司代理人魏艳新;姜春咸
摘要
本发明提供一种射线探测基板、射线成像设备和曝光时长确定方法,其中,射线探测基板包括:多个光电探测器和第一控制电路,多个光电探测器包括第一光电探测器和第二光电探测器,第一控制电路配置为,在曝光时长确定阶段:获取第一光电探测器产生的第一电信号,第一电信号为射线照射达到第一时长时第一光电探测器产生的电信号;获取第二光电探测器产生的第二电信号,第二电信号为射线照射多个光电探测器达到第二时长时,第二光电探测器产生的电信号;根据第一光电探测器产生的电信号与第二光电探测器产生的电信号之间的差异,确定目标曝光时长,并输出第一信号;第一信号配置为:控制射线发生器在达到目标曝光时长后停止发射射线。

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