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基板处理装置、加热单元以及半导体装置的制造方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201780088409.5
IPC分类号：H01L21/31;H01L21/324
申请日期：
2017-03-29
申请人：
株式会社国际电气

基础信息

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	基板处理装置、加热单元以及半导体装置的制造方法
申请号	CN201780088409.5	申请日期	2017-03-29
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2019-11-05	公开/公告号	CN110419095A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L21/31 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L21/00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备〔2，8〕 H01L21/02 半导体器件或其部件的制造或处理〔2，8〕 H01L21/04 至少具有一个跃变势垒或表面势垒的器件，例如PN结、耗尽层、载体集结层〔2〕 H01L21/18 器件有由周期表Ⅳ族元素或含有/不含有杂质的AⅢBⅤ族化合物构成的半导体，如掺杂材料〔2，6，7〕 H01L21/30 用H01L 21/20至H01L 21/26各组不包含的方法或设备处理半导体材料的（在半导体材料上制作电极的入H01L 21/28）〔2〕 H01L21/31 在半导体材料上形成绝缘层的，例如用于掩膜的或应用光刻技术的（密封层入H01L 21/56）；以及这些层的后处理；这些层的材料的选择〔2，5〕	IPC分类号	H;0;1;L;2;1;/;3;1;;;H;0;1;L;2;1;/;3;2;4查看分类表>
申请人	株式会社国际电气	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	株式会社国际电气	当前权利人	株式会社国际电气
发明人	野内英博;稻田哲明;立野秀人;宫西裕也
代理机构	北京银龙知识产权代理有限公司	代理人	张敬强;李平

摘要

本发明提供一种基板处理装置，其具备：反应管，其容纳基板；盖部，其封闭形成于反应管的炉口；加热器，其设置于反应管的炉口附近的侧壁的外周；多个温度传感器，其构成为分别测量反应管的炉口附近的侧壁上的在侧壁的周向上互相不同的多个位置的温度；以及控制部，其构成为基于多个温度传感器的每一个的测量值控制加热器。由此，以防止形成处理室的部件的温度产生局部的不均的方式进行加热。

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