真空蒸镀装置和真空蒸镀方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201410037012.1
IPC分类号：C23C14/24;C23C14/54;C23C14/12
申请日期：
2014-01-26
申请人：
日立造船株式会社

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著录项信息

专利名称	真空蒸镀装置和真空蒸镀方法
申请号	CN201410037012.1	申请日期	2014-01-26
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2014-08-06	公开/公告号	CN103966554A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/24 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/24 真空蒸发〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;2;4;;;C;2;3;C;1;4;/;5;4;;;C;2;3;C;1;4;/;1;2查看分类表>
申请人	日立造船株式会社	申请人地址	日本大阪府变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	日立造船株式会社	当前权利人	日立造船株式会社
发明人	大工博之
代理机构	北京信慧永光知识产权代理有限责任公司	代理人	鹿屹;李雪春

摘要

本发明提供能提高有机EL膜整体的厚度均等性的真空蒸镀装置和真空蒸镀方法。真空蒸镀装置包括引导通道，输送利用蒸发源得到的蒸发材料；以及释放构件，向被蒸镀构件释放从引导通道流入的蒸发材料。释放构件包括分散容器(7)，用于扩散蒸发材料；以及多个喷嘴构件(8)，朝向被蒸镀构件突出设置，且在前端具有用于向被蒸镀构件释放蒸发材料的收缩开口部。各喷嘴构件(8)具有喷嘴构件(8)的内直径(D)、喷嘴构件(8)的长度(L)和收缩开口部(8a)的直径(D’)。释放构件具有调整各喷嘴构件(8)的蒸发材料的流量的装置(13)，以使各喷嘴构件(8)的蒸发材料的流量为规定值。喷嘴构件(8)的内直径(D)(mm)、喷嘴构件(8)的长度(L)(mm)和收缩开口部的直径(D’)(mm)满足关系式L≥9D且D’≤2.7D2/L，或者L<9D且D’≤D/3。

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