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用于移除浸润式微影溶液的组合物及制造半导体器件的方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200610105645.7
IPC分类号：G03F7/42;G03F7/20;G03F7/16
申请日期：
2006-07-17
申请人：
海力士半导体有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	用于移除浸润式微影溶液的组合物及制造半导体器件的方法
申请号	CN200610105645.7	申请日期	2006-07-17
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2007-05-09	公开/公告号	CN1959542
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/42 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/26 感光材料的处理及其设备（G03F 7/12至G03F 7/24优先）〔3，5〕 G03F7/42 剥离或剥离剂〔5〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;4;2;;;G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;3;F;7;/;1;6查看分类表>
申请人	海力士半导体有限公司	申请人地址	韩国京畿道变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	海力士半导体有限公司	当前权利人	海力士半导体有限公司
发明人	郑载昌;李晟求
代理机构	北京市柳沈律师事务所	代理人	封新琴;巫肖南

摘要

本发明披露一种用于移除浸润式微影溶液的组合物。该组合物包括有机溶剂与酸性化合物。另外还揭示了一种用来制造半导体器件的方法，其包括浸润式微影法。当利用浸润式微影法来形成光阻剂图案时，利用浸润式微影法曝光器，在形成于底层上的阻剂薄膜上方进行曝光过程。然后，将该组合物滴在晶片上，以移除在该光阻剂薄膜上的残余浸润式微影溶液，由此改良水痕缺陷现象。

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