光学元件及其生产方法和生产薄膜的方法

发明专利无效专利

申请号：
CN03107222.4
IPC分类号：G02B1/10;G02B1/11
申请日期：
2003-03-18
申请人：
保谷株式会社

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著录项信息

专利名称	光学元件及其生产方法和生产薄膜的方法
申请号	CN03107222.4	申请日期	2003-03-18
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2003-10-01	公开/公告号	CN1445562
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02B1/10 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02B 光学元件、系统或仪器（G02F优先；专用于照明装置或系统的光学元件入F21V 1/00至F21V 13/00；测量仪器见G01类的有关小类，例如，光学测距仪入G01C；光学元件、系统或仪器的测试入G01M 11/00；眼镜入G02C；摄影、放映或观看用的装置或设备入G03B；声透镜入G10K 11/30；电子和离子“光学”入H01J；X射线“光学”入H01J，H05G 1/00；结构上与放电管相组合的光学元件入H01J 5/16，H01J 29/89，H01J 37/22；微波“光学”入H01Q；光学元件与电视接收机的组合装置入H04N 5/72；彩色电视系统中的光学系统或装置入H04N 9/00；专门适用于透明或反射区的加热装置入H05B 3/84）〔1，7〕 G02B1/00 按制造材料区分的光学元件（光学玻璃的成分入C03C 3/00）；用于光学元件的光学涂层 G02B1/10 对光学元件表面涂覆或对其进行表面处理后所产生的光学涂层（G02B1/08优先）〔1，2015.01〕	IPC分类号	G;0;2;B;1;/;1;0;;;G;0;2;B;1;/;1;1查看分类表>
申请人	保谷株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	HOYA株式会社	当前权利人	HOYA株式会社
发明人	高桥幸弘;松本雅一
代理机构	中国国际贸易促进委员会专利商标事务所	代理人	陈季壮

摘要

一种在基材上具有抗反射膜的光学元件，其中抗反射膜的层包含作为主要组分的通过汽相淀积而沉积的二氧化硅；所述层进一步外设有含氟防水层；且所述光学元件具有以下特性(1)和(2)：(1)如果提供防水层，对水的起始静止接触角(摩擦之前的静止接触角)是104°或更多，和(2)如果将麂皮在水中在25℃下浸渍5分钟，并随后在施加负荷500g的同时用麂皮将防水层的表面摩擦10,000次，对水的静止接触角(摩擦之后的静止接触角)比摩擦之前的静止接触角小0-10°。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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