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一种193nm浸没式光刻用光产酸剂及光刻胶组合物

发明专利有效专利

申请号：
CN202110979404.X
IPC分类号：G03F7/004
申请日期：
2021-08-25
申请人：
上海芯刻微材料技术有限责任公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种193nm浸没式光刻用光产酸剂及光刻胶组合物
申请号	CN202110979404.X	申请日期	2021-08-25
法律状态	公开	申报国家	暂无
公开/公告日	2021-11-26	公开/公告号	CN113703285A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/004 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/004 感光材料（G03F 7/12，G03F 7/14优先）〔5〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;0;0;4查看分类表>
申请人	上海芯刻微材料技术有限责任公司	申请人地址	上海市松江区思贤路3600号11号楼东侧变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	上海芯刻微材料技术有限责任公司	当前权利人	上海芯刻微材料技术有限责任公司
发明人	王溯;方书农;徐森;林逸鸣
代理机构	上海弼兴律师事务所	代理人	王卫彬;陈卓

摘要

本发明公开了一种193nm浸没式光刻用光产酸剂及光刻胶组合物。本发明的光产酸剂如式I所示。含有本发明的光产酸剂的光刻胶的具有分辨率高、灵敏度高和线宽粗糙度低的优点，具有良好的应用前景。

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