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一种去除DBR膜层的制作方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201710793690.4
  • IPC分类号:H01L33/00;H01L33/46
  • 申请日期:
    2017-09-06
  • 申请人:
    佛山市国星半导体技术有限公司
著录项信息
专利名称一种去除DBR膜层的制作方法
申请号CN201710793690.4申请日期2017-09-06
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2018-01-23公开/公告号CN107623060A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L33/00IPC分类号H;0;1;L;3;3;/;0;0;;;H;0;1;L;3;3;/;4;6查看分类表>
申请人佛山市国星半导体技术有限公司申请人地址
广东省佛山市南海区狮山镇罗村朗沙广东新光源产业基地内光明大道18号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人佛山市国星半导体技术有限公司当前权利人佛山市国星半导体技术有限公司
发明人艾国齐
代理机构广州三环专利商标代理有限公司代理人暂无
摘要
本发明提供的一种去除DBR膜层的制作方法,包括提供一LED晶圆,其中,所述LED晶圆的底部设有DBR膜层,对所述DBR膜层进行刻蚀,形成第一孔洞,对所述第一孔洞进行干法刻蚀,形成贯穿所述DBR膜层的第二孔洞,对所述DBR膜层进行湿法刻蚀,去除所述DBR膜层,先对DBR膜层进行光刻,能够形成多个规则、尺寸同一的第一孔洞,这样有利于后续的刻蚀,从而最终使DBR膜层顺利去除,进一步地,通过形成第二孔洞便于使刻蚀溶液渗入到所述DBR膜层与所晶园的述衬底之间,从而便于去除所述DBR膜层,提高DBR膜层的去除率。

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