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接合结构及可挠式装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201511019558.5
  • IPC分类号:H01R12/69;H01R12/65
  • 申请日期:
    2015-12-30
  • 申请人:
    财团法人工业技术研究院
著录项信息
专利名称接合结构及可挠式装置
申请号CN201511019558.5申请日期2015-12-30
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2017-06-20公开/公告号CN106877030A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01R12/69IPC分类号H;0;1;R;1;2;/;6;9;;;H;0;1;R;1;2;/;6;5查看分类表>
申请人财团法人工业技术研究院申请人地址
中国台湾新竹县 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人财团法人工业技术研究院当前权利人财团法人工业技术研究院
发明人彭懿正;叶明华
代理机构北京市柳沈律师事务所代理人陈小雯
摘要
本发明公开一种接合结构及可挠式装置。该接合结构包括接触垫、各向异性导电薄膜(AnisotropicConductiveFilm,ACF)以及接触结构。接触垫具有至少一凹槽,其中接触垫的厚度为T且至少一凹槽的宽度为B。各向异性导电薄膜位于接触垫上方并具有多个导电粒子,各导电粒子位于至少一凹槽中,其中,各导电粒子的直径为A,且A大于B以及T,并且满足:B≦2(AT‑T2)1/2。接触结构位于各向异性导电薄膜上方并通过各导电粒子与接触垫电连接。该可挠式装置包括基板、图案化绝缘层、至少一接触垫、各向异性导电薄膜以及接触结构。

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