曝光装置用的反射镜、曝光装置用的反射型掩模、曝光装置以及图案形成方法

发明专利无效专利

申请号：
CN03134833.5
IPC分类号：G02B5/08;G02B1/10;G03F1/14;G03F7/20;G03F7/00
申请日期：
2003-09-25
申请人：
松下电器产业株式会社

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著录项信息

专利名称	曝光装置用的反射镜、曝光装置用的反射型掩模、曝光装置以及图案形成方法
申请号	CN03134833.5	申请日期	2003-09-25
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2004-04-28	公开/公告号	CN1492241
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02B5/08 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02B 光学元件、系统或仪器（G02F优先；专用于照明装置或系统的光学元件入F21V 1/00至F21V 13/00；测量仪器见G01类的有关小类，例如，光学测距仪入G01C；光学元件、系统或仪器的测试入G01M 11/00；眼镜入G02C；摄影、放映或观看用的装置或设备入G03B；声透镜入G10K 11/30；电子和离子“光学”入H01J；X射线“光学”入H01J，H05G 1/00；结构上与放电管相组合的光学元件入H01J 5/16，H01J 29/89，H01J 37/22；微波“光学”入H01Q；光学元件与电视接收机的组合装置入H04N 5/72；彩色电视系统中的光学系统或装置入H04N 9/00；专门适用于透明或反射区的加热装置入H05B 3/84）〔1，7〕 G02B5/00 除透镜外的光学元件（光波导入G02B 6/00；光学逻辑元件入G02F 3/00）〔4〕 G02B5/08 反射镜	IPC分类号	G;0;2;B;5;/;0;8;;;G;0;2;B;1;/;1;0;;;G;0;3;F;1;/;1;4;;;G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;3;F;7;/;0;0查看分类表>
申请人	松下电器产业株式会社	申请人地址	日本大阪府变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	松下电器产业株式会社	当前权利人	松下电器产业株式会社
发明人	远藤政孝;笹子胜
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	汪惠民

摘要

一种曝光装置用的反射镜、曝光装置用的反射型掩模、曝光装置以及图案形成方法。所述曝光装置具备，反射型掩模(20)和第一反射镜(30a)、第二反射镜(30b)、第三反射镜(30c)以及第四反射镜(30d)。反射型掩模(20)具有，选择性地形成在掩模基板上且反射极紫外线的反射层、形成在反射层的上面且吸收极紫外线的极紫外线吸收层、以及形成在反射层上的至少是没有形成极紫外线吸收层的区域的红外线吸收层。反射镜具有形成在镜面基板上并反射极紫外线的反射层和形成在反射层上并吸收红外线的吸收层。根据本发明，向抗蚀膜选择性地照射极紫外线之后，通过显影而得到的抗蚀图的形状不会劣化。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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