一种干法等离子刻蚀机的反应腔

实用新型专利有效专利

申请号：
CN201320336839.3
IPC分类号：H01J37/32
申请日期：
2013-06-08
申请人：
天通吉成机器技术有限公司

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著录项信息

专利名称	一种干法等离子刻蚀机的反应腔
申请号	CN201320336839.3	申请日期	2013-06-08
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01J37/32 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01J 放电管或放电灯（火花隙入H01T；消耗电极的弧光灯入H05B；粒子加速器入H05H） H01J37/00 有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的（H01J 33/00、H01J 40/00、H01J 41/00、H01J 47/00、H01J 49/00优先）〔2，5〕 H01J37/32 充气放电管（放电加热的入H05B）	IPC分类号	H;0;1;J;3;7;/;3;2查看分类表>
申请人	天通吉成机器技术有限公司	申请人地址	浙江省嘉兴市海宁市海宁经济开发区双联路129号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	天通吉成机器技术有限公司	当前权利人	天通吉成机器技术有限公司
发明人	张钦亮;平志韩;苏静洪;王谟;俞敏人
代理机构	浙江杭州金通专利事务所有限公司	代理人	赵芳;黄芳

摘要

一种干法等离子刻蚀机的反应腔，包括圆筒状反应腔和盖在反应腔上面的上盖，上盖的中央位置设有进气孔，反应腔的侧壁、底壁及上盖形成了反应腔，待刻蚀的基片放置在反应腔底壁的中央位置，反应腔上设有取送基片的取送片口；反应腔内设有与之适配的匀流内衬，匀流内衬包括圆筒状的本体，本体上设有与取送片口对应的传送孔，本体底部设有一圈向内延伸的环形底板，环形底板与待刻蚀基片的位置匹配，环形底板上均匀地分布有匀流槽孔；本体的顶部设有与反应腔连接的固定法兰，固定法兰与反应腔之间设有密封槽。本实用新型具有腔室纯净，污染小，腔内气氛均匀性好，使用寿命长的优点。

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