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预清洗腔室及等离子体加工设备

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201310341787.3
  • IPC分类号:C23C16/02
  • 申请日期:
    2013-08-07
  • 申请人:
    北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
著录项信息
专利名称预清洗腔室及等离子体加工设备
申请号CN201310341787.3申请日期2013-08-07
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2015-02-11公开/公告号CN104342632A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C23C16/02IPC分类号C;2;3;C;1;6;/;0;2查看分类表>
申请人北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司申请人地址
北京市北京经济技术开发区文昌大道8号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人北京北方华创微电子装备有限公司当前权利人北京北方华创微电子装备有限公司
发明人陈鹏;吕铀;丁培军;杨敬山;边国栋;赵梦欣;佘清;李伟
代理机构北京天昊联合知识产权代理有限公司代理人彭瑞欣;张天舒
摘要
本发明提供的预清洗腔室及等离子体加工设备,包括腔体、顶盖和承载单元,顶盖设置在腔体顶端,承载单元设置在腔体底部,用以承载晶片,并且,在腔体内的承载单元上方设置有离子过滤单元,该离子过滤单元用于在等离子体自其上方朝向所述承载单元的方向运动时,过滤等离子体中的离子。本发明提供的预清洗腔室,其可以在等离子体自其上方朝向所述承载单元的方向运动时,过滤等离子体中的离子,从而可以避免等离子体中的离子对Low‑k材料的不良影响,进而可以提高产品性能。

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