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一种发光二极管后处理工艺

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010178156.4
  • IPC分类号:B21F1/02;H01L33/62;H01L21/67
  • 申请日期:
    2020-03-14
  • 申请人:
    倪娅丹
著录项信息
专利名称一种发光二极管后处理工艺
申请号CN202010178156.4申请日期2020-03-14
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2020-06-16公开/公告号CN111283117A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B21F1/02IPC分类号B;2;1;F;1;/;0;2;;;H;0;1;L;3;3;/;6;2;;;H;0;1;L;2;1;/;6;7查看分类表>
申请人倪娅丹申请人地址
广东省深圳市宝安区新安街道兴东社区留仙大道2号汇聚创新园1栋603 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人深圳市世鸿鑫科技有限公司当前权利人深圳市世鸿鑫科技有限公司
发明人倪娅丹;高亚芳
代理机构北京成实知识产权代理有限公司代理人陈永虔
摘要
本发明涉及一种发光二极管后处理工艺,主要包括以下步骤,检验作业、拉直处理、检测处理以及收集包装等多种工序,使用到的拉直设备包括底板、取料装置、旋转装置、调直装置和夹持装置,本发明可以解决现有发光二极管引脚拉直时存在的以下难题,a,传统的发光二极管引脚在拉直时,需要人工拿住发光二极管中端,用手指夹持住发光二极管的引脚进行捋直作业,工作效率较低,不能满足大量的生产,并且人工使用手指捋直时很容易被发光二极管的引脚戳伤;b,人工对发光二极管引脚捋直时,由于用力过度,经常会将发光二极管的引脚拉断,浪费原材料,拉直效率高并且效果好,不会出现引脚拉断的现象。

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