一种去除氧化层的清洗装置

实用新型专利有效专利

申请号：
CN201921407541.0
IPC分类号：B08B7/00;B08B13/00
申请日期：
2019-08-26
申请人：
深圳市科达利实业股份有限公司

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著录项信息

专利名称	一种去除氧化层的清洗装置
申请号	CN201921407541.0	申请日期	2019-08-26
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B08B7/00 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B0 分离；混合 B08 清洁 B08B 一般清洁；一般污垢的防除（刷子入A46；家庭或类似清洁装置入A47L；颗粒从液体或气体中分离入B01D；固体分离入B03，B07；一般对表面喷射或涂敷液体或其他流体材料入B05；用于输送机的清洗装置入B65G 45/10；对瓶子同时进行清洗、灌注和封装的入B67C 7/00；一般腐蚀或积垢的防止入C23；街道、永久性道路、海滨或陆地的清洗入E01H；专门用于游泳池或仿海滨浴场浅水池或池子的部件、零件或辅助设备清洁的入E04H 4/16；防止或清除静电荷入H05F） B08B7/00 不包含在其他小类或本小类的其他组中的清洁方法	IPC分类号	B;0;8;B;7;/;0;0;;;B;0;8;B;1;3;/;0;0查看分类表>
申请人	深圳市科达利实业股份有限公司	申请人地址	广东省深圳市南山区沙河西路1809号深圳湾科技生态园11栋A座27层变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	深圳市科达利实业股份有限公司	当前权利人	深圳市科达利实业股份有限公司
发明人	励建炬;李成;苏杰
代理机构	北京品源专利代理有限公司	代理人	胡彬

摘要

本实用新型公开了一种去除氧化层的清洗装置包括机架、料仓、清洗机构和输送机构。料仓被配置为存放多个待清洗片，多个待清洗片层叠放置，清洗机构设在机架上，清洗机构包括间隔开设置的两个激光清洗模块，两个激光清洗模块可分别清洗待清洗片的正反两面，输送机构设在机架上，输送机构被配置为将待清洗片输送至清洗机构。输送机构包括推料模块、转向模块和输送模块。推料模块被配置为将待清洗片推出料仓且运动至转向模块，转向模块被配置带动待清洗片由水平状态转动至竖直状态且止抵在输送模块上，输送模块设在机架上，输送模块可将处于竖直状态的待清洗片输送至清洗机构。该清洗装置的清洗效果较好，且清洗效率较高。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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