被覆薄层抗涡流方法

1、一种被覆薄层抗涡流方法，基于涡流的趋肤效应，其特征在 于：在形成涡流的导电介质结构(1)表面粘贴或镀覆高电阻率ρ、高 磁导率μ的材料薄层(2)，使外加交变电磁场在薄层(2)内综合感应电 流趋于零。
2、按照权利要求1所述的被覆薄层抗涡流方法，其特征在于： 所述粘贴或镀覆的材料薄层(2)，其厚度 $t\ge 1/\sqrt{\mathrm{\pi \mu \sigma f}}$ 。
3、按照权利要求1所述的被覆薄层抗涡流方法，其特征在于： 所述粘贴或镀覆的材料薄层(2)，其介质电导率σ≤1.75×106欧-1米-1。
4、按照权利要求1所述的被覆薄层抗涡流方法，其特征在于： 所述粘贴或镀覆的材料薄层(2)，如果应用它的电磁设备工作在无外 磁场的环境，该薄层(2)的磁化特性是 $\frac{B}{H}{|}_{H=0}\ge 2000{\mu }_0,\frac{\partial B}{\partial B}{|}_{H=0}\ge 2000{\mu }_0$ 。
5、按照权利要求1所述的被覆薄层抗涡流方法，其特征在于： 所述粘贴或镀覆的材料薄层(2)，如果应用它的电磁设备工作在静磁 场为H0的外界环境中，该薄层(2)的磁化特性是 $\frac{B}{H}{|}_{H=H_0}\ge 2000{\mu }_0;\frac{\partial B}{\partial H}{|}_{H=H_0}\ge 2000{\mu }_0$ 。
6、按照权利要求1所述的被覆薄层抗涡流方法，其特征在于： 在导电介质结构(1)表面粘贴的材料薄层(2)是由硅钢合金微粒(21)调 合有机硅胶或塑料(22)形成的。
7、按照权利要求1所述的被覆薄层抗涡流方法，其特征在于： 在导电介质结构(1)表面镀覆的材料薄层(2)，是硅钢合金微粒(23)的 集合。
8、按照权利要求7所述的被覆薄层抗涡流方法，其特征在于： 所述硅钢合金微粒(23)的直径d＜k/3fmax。

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