ENTEGRIS

【0101】用于制造半导体、太阳能电池板以及平板显示器用气体的负压气体储存和分配系统，其由吸附剂与所吸附的制造半导体、太阳能电池板以及平板显示器用气体组成，不包括天然气或天然气脱水或净化机器（根据《实施细则》第13条2款b项的规定，国际局认为该术语过于模糊）

【0101】在装有吸附材料的气体供应容器中提供的气体，其用于半导体制造和其它工业工艺

【0101】工业和科学用化学品

【0101】用于制造半导体和微电子产品的吸附气体，其作为在装有吸附材料的气体供应容器中提供

【0101】用于制造半导体、平板显示器、CD盘和存储介质的加工气体

【0101】用于离子注入和化学气相沉积的负压气体

【0101】与气体供应设备一起出售的化学气体，上述设备用于储存气体和按需分配此类气体，即在金属容器中出售的化学气体，容器中装有加压或液体形式的气体，所述容器内装有压力调节器和用于按需分配这种气体的流量控制阀，上述用于半导体制造

【0101】用于制造半导体、微电子产品、太阳能电池板和平板显示器的气体，上述在气体供应容器中提供并用于此类制造中按需分配此类气体

【0101】负压气源，即用于制造半导体、微电子产品、太阳能电池板和平板显示器的吸附在气体供应容器内吸附剂上的气体

【0101】负压气体，即用于制造半导体、太阳能电池板以及平板显示器的气体，不包括天然气

【0102】工业和科学用化学品

【0103】工业和科学用化学品

【0104】半导体制造和加工中使用的化学溶液，即光致抗蚀剂剥离剂、苯骈三唑（bta）和l—脯氨酸溶液

【0104】用于抛光半导体的分配在水中的气相二氧化硅

【0104】用于制造半导体、太阳能电池板以及平板显示器用气体的负压气体储存和分配系统，其由吸附剂与所吸附的制造半导体、太阳能电池板以及平板显示器用气体组成，不包括天然气或天然气脱水或净化机器（根据《实施细则》第13条2款b项的规定，国际局认为该术语过于模糊）

【0104】用于从微电子产品（例如晶片和微电子器件）中去除微电子制造材料的化学组合物，这些产品在去除此类材料后被回收

【0104】工业和科学用化学品

【0104】化学源材料，即用于制造半导体、平板显示器和太阳能电池板的基板上薄膜沉积的化学组合物

【0104】用于制造半导体的化学试剂输送系统的化学品

【0104】气相沉积金属化用化学品

【0104】复合材料，即用于进一步制造模制品、由聚合物和碳纳米管制复合物

【0104】用于半导体抛光的金属氧化物水分散体

【0104】用于制造半导体、集成电路、平板显示器、太阳能电池板和光伏产品的化学品

【0104】化学添加剂，即用于制造电子元件和基板、光学元件、金属、机械、计算机部件以及磁性数据存储磁盘和磁头的研磨分散体

【0104】用于半导体制造、太阳能电池板制造和平板显示器制造的化学组合物

【0104】化学品，即含聚合物的减阻剂和流动性改进剂，其用以增加通过管道的碳氢化合物流量

【0104】工业和科学用化学制剂，即半导体和微电子工业用化学制剂

【0104】化学产品，即用于气相沉积工艺的化学组合物

【0104】化学源材料，即用于制造半导体的半导体晶片上薄膜沉积的化学组合物

【0104】用于半导体应用中有害气体处理的化学品

【0104】用于半导体、集成电路和相关产品制造的去除光致抗蚀剂和蚀刻后残留物的化学组合物

【0104】电子元件制造用高纯度化学组合物

【0104】用于光电子和光子产品行业半导体制造和加工的化学机械抛光（cmp）浆料和化学机械平坦化（cmp）浆料

【0104】一般工业用吸附碳

【0104】半导体工业中用于制造先进集成电路器件的化学浆料

【0106】工业和科学用化学品

【0106】化学组合物，即用于电子产品和半导体制造业的半导体制造用试剂

【0106】化学组合物，即半导体制造用化学试剂

【0106】化学组合物，即试剂，即外延薄膜材料、有机金属源试剂化合物和络合物、以及离子注入材料、上述均用于电子产品和半导体制造业

【0111】工业和科学用化学品

【0112】工业和科学用化学品

【0113】工业和科学用化学品

【0114】工业和科学用化学品

【0115】工业和科学用化学品