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已注册

申请号: 59216165

申请日期: 2021-09-14

申请人: 上海艾格姆气体有限公司

国际分类: 1类-化学原料

服务项:

0101溴、镓、硫化氢、液体二氧化硫、工业用氧、光气(碳酰氯)、氡、三氧化硫、亚硫酸气体(二氧化硫)、氯气、液体二氧化碳、六氟化硫、一氧化二氮、氢、氦、氮、氩、氪、氖、氙、液态空气、液态氯、无水氨、干冰(二氧化碳)、氟;

0102氨水、有机砷化合物、乙烷、有机硅烷、碳酸盐、磷化氢、硅烷、氯化氢;

0104过滤材料(化学制剂)、半导体制造用蚀刻剂、毒气中和剂、半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料、气体净化剂、工业用化学制剂、工业用化学品;

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基本信息

商标名称 AGMT
申请号 59216165 国际分类 1类-化学原料 商标分类表
商标状态 已注册 申请日期 2021-09-14
申请人 上海艾格姆气体有限公司 查看此申请人的商标分析报告
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 查看此代理机构下的所有商标
商标类型 普通商标 是否共有商标 否
专用权期限 2023-03-14至2033-03-13 国际注册日期 暂无
后期指定日期 暂无 优先权日期 暂无

商品信息

商品与服务项

【0101】溴

【0101】镓

【0101】硫化氢

【0101】液体二氧化硫

【0101】工业用氧

【0101】光气(碳酰氯)

【0101】氡

【0101】三氧化硫

【0101】亚硫酸气体(二氧化硫)

【0101】氯气

【0101】液体二氧化碳

【0101】六氟化硫

【0101】一氧化二氮

【0101】氢

【0101】氦

【0101】氮

【0101】氩

【0101】氪

【0101】氖

【0101】氙

【0101】液态空气

【0101】液态氯

【0101】无水氨

【0101】干冰(二氧化碳)

【0101】氟

【0102】氨水

【0102】有机砷化合物

【0102】乙烷

【0102】有机硅烷

【0102】碳酸盐

【0102】磷化氢

【0102】硅烷

【0102】氯化氢

【0104】过滤材料(化学制剂)

【0104】半导体制造用蚀刻剂

【0104】毒气中和剂

【0104】半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料

【0104】气体净化剂

【0104】工业用化学制剂

【0104】工业用化学品

申请类似群 无 未申请类似群 无

申请人信息

申请类型 企业 地区商标 上海商标注册
申请人名称 上海艾格姆气体有限公司
申请人地址 上海市闵行区吴中路1799-6号3层***

流程信息

2025-12-05 变更商标申请人/注册人名义/地址-申请收文

2023-04-07 驳回复审-打印注册证

2022-08-02 驳回复审-实审裁文发文

2022-07-06 去国际注册-受理通知发文

2022-06-30 去国际注册-核准电子发文

2022-06-29 去国际注册-收费通知单

2022-06-22 去国际注册-补正通知发文

2022-05-05 去国际注册-申请收文

2022-03-04 驳回复审-申请收文

2022-02-01 商标注册申请-驳回通知发文

2021-12-16 商标注册申请-受理通知书发文

2021-10-24 商标注册申请-补正通知发文

2021-09-14 商标注册申请-申请收文

公告信息

初审公告期号 第1819期 初审公告日期 2022-12-13
注册公告期号 第1831期 注册公告日期 2023-03-14

2025-12-13 第1963期《商标注册人/申请人名义及地址变更公告》

2023-03-13 第1831期《商标注册公告(一)》

2022-12-13 第1819期《商标初步审定公告》

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