基本信息
| 商标名称 | ORBIS | ||
| 申请号 | 61610819 | 国际分类 | 7类-机械设备 商标分类表 |
| 商标状态 | 已注册 | 申请日期 | 2021-12-22 |
| 申请人 | 细美事有限公司 SEMES CO.， LTD. 查看此申请人的商标分析报告 | ||
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 查看此代理机构下的所有商标 | ||
| 商标类型 | 普通商标 | 是否共有商标 | 否 |
| 专用权期限 | 2022-10-14至2032-10-13 | 国际注册日期 | 暂无 |
| 后期指定日期 | 暂无 | 优先权日期 | 2021-11-26 |
商品信息
| 商品与服务项 |
基片加工机器 用于制造半导体的等离子体淀积装置 等离子体淀积装置 加工基片用开发设备 用于制造半导体的原子层蚀刻（ALE）装置 加工基片用涂层设备 蚀刻设备 基片加工等离子体用机器 基片传输用机器人 半导体晶片清洁设备 半导体晶片涂层设备 半导体晶片开发设备 加工基片用清洁设备 半导体晶片干燥设备 用于制造半导体的原子层淀积（ALD）装置 加工基片用淀积设备 干蚀刻设备 加工基片用干燥设备 【0734】输送机（机器） 【0744】半导体制造机 【0744】半导体制造设备 【0744】等离子体蚀刻设备 【0744】半导体晶片蚀刻设备 【0744】用于制造半导体的蚀刻设备 【0744】用于制造半导体晶片的等离子体蚀刻装置 【0744】半导体晶片处理设备 【0744】静电工业设备 【0744】制造显示面板用的蚀刻设备 【0744】电子工业设备 【0744】半导体晶片加工机 【0744】半导体芯片制造设备 【0744】用于制造半导体的等离子体蚀刻设备 【0744】等离子体蚀刻机 【0747】静电喷涂用自动喷射机 【0752】电动清洁机械和设备 【0752】蒸汽清洁器械 【0754】电镀机 |
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| 申请类似群 | 无 | 未申请类似群 | 无 |
申请人信息
| 申请类型 | 企业 | 地区商标 | 忠清南道商标注册 |
| 申请人名称 | 细美事有限公司(SEMES CO.， LTD.) | ||
| 申请人地址 | 大韩民国忠清南道天安市西北区稷山邑四产***(77， 4sandan 5-gil， Jiksan-eup， Seobuk-gu， Cheonan-si， Chungcheongnam-do， Republic of Korea) | ||
流程信息
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2022-11-05 商标注册申请-注册证发文 2022-07-03 商标注册申请-等待驳回复审 2022-05-08 商标注册申请-驳回通知发文 2022-04-02 商标注册申请-受理通知书发文 2022-02-09 商标注册申请-补正通知发文 2021-12-22 商标注册申请-申请收文 |
公告信息
| 初审公告期号 | 第1799期 | 初审公告日期 | 2022-07-13 |
| 注册公告期号 | 第1811期 | 注册公告日期 | 2022-10-14 |
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2022-10-13 第1811期《商标注册公告（一）》 2022-07-13 第1799期《商标初步审定公告》 |
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