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COS

商标无效

申请号: 89806865

申请日期: 2026-01-20

申请人: 圆益艾辟思股份有限公司

国际分类: 7类-机械设备

服务项:

0742高周波金属热处理机、电火花加工机(EDM);

0744半导体制造用原子层沉积装置、用以制造半导体之热处理设备、用以制造液晶显示器之蚀刻机、半导体制造设备、用以制造液晶显示器之薄膜沉积设备、用以制造半导体之溅镀设备、用以制造半导体之蚀刻机、半导体制造用激光加工机、离子注入机、平板显示器制造机、用以制造半导体之薄膜沉积设备、用以制造半导体之电子束退火设备、用以制造液晶显示器之电浆化学沉积设备、半导体晶片处理设备、制造用半导体曝光装置、用以制造液晶显示器之退火设备、用以制造液晶显示器之溅镀设备、用以制造液晶显示器之离子束蚀刻机、等离子刻蚀机、制造显示面板用的蚀刻设备、半导体制造机;

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基本信息

商标名称 COS
申请号 89806865 国际分类 7类-机械设备 商标分类表
商标状态 商标无效 申请日期 2026-01-20
申请人 圆益艾辟思股份有限公司   WONIK IPS CO., LTD. 查看此申请人的商标分析报告
代理机构 北京银龙知识产权代理有限公司 查看此代理机构下的所有商标
商标类型 普通商标 是否共有商标 否
专用权期限 暂无 国际注册日期 暂无
后期指定日期 暂无 优先权日期 暂无

商品信息

商品与服务项

【0742】高周波金属热处理机

【0742】电火花加工机(EDM)

【0744】半导体制造用原子层沉积装置

【0744】用以制造半导体之热处理设备

【0744】用以制造液晶显示器之蚀刻机

【0744】半导体制造设备

【0744】用以制造液晶显示器之薄膜沉积设备

【0744】用以制造半导体之溅镀设备

【0744】用以制造半导体之蚀刻机

【0744】半导体制造用激光加工机

【0744】离子注入机

【0744】平板显示器制造机

【0744】用以制造半导体之薄膜沉积设备

【0744】用以制造半导体之电子束退火设备

【0744】用以制造液晶显示器之电浆化学沉积设备

【0744】半导体晶片处理设备

【0744】制造用半导体曝光装置

【0744】用以制造液晶显示器之退火设备

【0744】用以制造液晶显示器之溅镀设备

【0744】用以制造液晶显示器之离子束蚀刻机

【0744】等离子刻蚀机

【0744】制造显示面板用的蚀刻设备

【0744】半导体制造机

申请类似群 无 未申请类似群 无

申请人信息

申请类型 企业 地区商标 京畿道商标注册
申请人名称 圆益艾辟思股份有限公司(WONIK IPS CO., LTD.)
申请人地址 韩国京畿道平泽市振威面振威***(75, JINWISANDAN-RO, JINWI-MYEON, PYEONGTAEK-SI, GYEONGGI-DO 17709 REPUBLIC OF KOREA)

流程信息

2026-06-15 商标注册申请-驳回通知书发文

2026-03-12 商标注册申请-受理通知书发文

2026-01-20 商标注册申请-申请收文

公告信息

初审公告期号 暂无 初审公告日期 暂无
注册公告期号 暂无 注册公告日期 暂无

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