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ENTEGRIS
待审中申请号: G1813340
申请日期: 2024-10-03
申请人: ENTEGRIS, INC.
国际分类: 3类-日化用品
基本信息
| 商标名称 | ENTEGRIS | ||
| 申请号 | G1813340 | 国际分类 | 3类-日化用品 商标分类表 |
| 商标状态 | 待审中 | 申请日期 | 2024-10-03 |
| 申请人 | ENTEGRIS, INC. ENTEGRIS, INC. 查看此申请人的商标分析报告 | ||
| 代理机构 | 国际局 查看此代理机构下的所有商标 | ||
| 商标类型 | 普通商标 | 是否共有商标 | 否 |
| 专用权期限 | 暂无 | 国际注册日期 | 暂无 |
| 后期指定日期 | 暂无 | 优先权日期 | 暂无 |
商品信息
| 商品与服务项 |
【0302】光电子和光子行业中用于集成电路(ic)加工的化学清洗溶液 【0302】半导体制造和加工中使用的镀铜后化学机械平坦化(cmp)清洗液 【0302】半导体制造和加工用灰化后清洗液 【0302】电子工业用化学清洁剂 【0302】研磨制剂,即化学清洁剂,即下述用途的研磨分散浆料和清洁抛光制剂:用于电子元件和基板、光学元件、玻璃、金属、塑料、机械、计算机部件、磁性数据存储磁盘和磁头的精加工 【0303】下述用途的化学浆料:在半导体、电子、硬磁盘和磁头行业中用于抛光半导体、硅片、玻璃、金属、塑料、机械、电子元件和基板、光学元件、计算机部件、磁性数据存储磁盘和磁头 【0303】研磨制剂,即化学清洁剂,即下述用途的研磨分散浆料和清洁抛光制剂:用于电子元件和基板、光学元件、玻璃、金属、塑料、机械、计算机部件、磁性数据存储磁盘和磁头的精加工 【0304】工业用研磨料,即用于研磨和抛光半导体、硅片、玻璃和金属表面的研磨膏 【0304】研磨制剂,即化学清洁剂,即下述用途的研磨分散浆料和清洁抛光制剂:用于电子元件和基板、光学元件、玻璃、金属、塑料、机械、计算机部件、磁性数据存储磁盘和磁头的精加工 |
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| 申请类似群 | 无 | 未申请类似群 | 无 |
申请人信息
| 申请类型 | 企业 | 地区商标 | 马萨诸塞商标注册 |
| 申请人名称 | ENTEGRIS, INC.(ENTEGRIS, INC.) | ||
| 申请人地址 | 129 Concord Road Billerica MA ***(129 Concord Road Billerica MA 01821) | ||
流程信息
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2025-03-08 领土延伸-驳回电子发文 2024-10-03 领土延伸-申请收文 |
公告信息
| 初审公告期号 | 暂无 | 初审公告日期 | 暂无 |
| 注册公告期号 | 暂无 | 注册公告日期 | 暂无 |