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EXTOPE
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EXTOPE

待审中

申请号: G1377524

申请日期: 2017-11-30

申请人: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION

国际分类: 42类-网站服务

服务项:

4220计算机软件的设计、开发和编程、X射线荧光分析仪的设计、开发和编程、用于有关半导体材料,即半导体晶片和光栅的电子成像平台的可下载成像软件及用于有关半导体材料,即半导体晶片和光栅的电子成像平台的操作系统软件的设计、开发和编程、光谱仪用计算机软件的设计、开发和编程、电子显微镜用计算机软件的设计、开发和编程、提供用于X射线荧光仪的可下载图像处理软件和用于X射线荧光仪的操作系统软件、提供用于光谱仪的可下载图像处理软件和用于光谱仪的操作系统软件、提供用于有关半导体材料,即半导体晶片和光栅的电子成像平台的可下载成像软件及用于有关半导体材料,即半导体晶片和光栅的电子成像平台的操作系统软件、提供用于电子显微镜的可下载图像处理软件和用于电子显微镜的操作系统软件;

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基本信息

商标名称 EXTOPE
申请号 G1377524 国际分类 42类-网站服务 商标分类表
商标状态 待审中 申请日期 2017-11-30
申请人 HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION   HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION 查看此申请人的商标分析报告
代理机构 暂无 查看此代理机构下的所有商标
商标类型 普通商标 是否共有商标
专用权期限 暂无 国际注册日期 暂无
后期指定日期 暂无 优先权日期 暂无

商品信息

商品与服务项

【4220】计算机软件的设计、开发和编程

【4220】X射线荧光分析仪的设计、开发和编程

【4220】用于有关半导体材料,即半导体晶片和光栅的电子成像平台的可下载成像软件及用于有关半导体材料,即半导体晶片和光栅的电子成像平台的操作系统软件的设计、开发和编程

【4220】光谱仪用计算机软件的设计、开发和编程

【4220】电子显微镜用计算机软件的设计、开发和编程

【4220】提供用于X射线荧光仪的可下载图像处理软件和用于X射线荧光仪的操作系统软件

【4220】提供用于光谱仪的可下载图像处理软件和用于光谱仪的操作系统软件

【4220】提供用于有关半导体材料,即半导体晶片和光栅的电子成像平台的可下载成像软件及用于有关半导体材料,即半导体晶片和光栅的电子成像平台的操作系统软件

【4220】提供用于电子显微镜的可下载图像处理软件和用于电子显微镜的操作系统软件

申请类似群 未申请类似群

申请人信息

申请类型 企业 地区商标 东京都商标注册
申请人名称 HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION(HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION)
申请人地址 24-14, Nishishinbashi 1-chome, Minato-ku Tokyo 105***(24-14, Nishishinbashi 1-chome, Minato-ku Tokyo 105-8717)

流程信息

2017-11-30 领土延伸-申请收文

公告信息

初审公告期号 暂无 初审公告日期 暂无
注册公告期号 暂无 注册公告日期 暂无

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