NANOSMOOTH

已注册

申请号： G1140912

申请日期： 2012-12-29

申请人： Evatec AG

国际分类： 42类-网站服务

服务项：

4209科学服务和研究工作，即真空处理流程的绘图、设计以及分析，尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延，还包括采用等离子辅助的，包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

4210科学服务和研究工作，即真空处理流程的绘图、设计以及分析，尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延，还包括采用等离子辅助的，包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

4211科学服务和研究工作，即真空处理流程的绘图、设计以及分析，尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延，还包括采用等离子辅助的，包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

4212科学服务和研究工作，即真空处理流程的绘图、设计以及分析，尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延，还包括采用等离子辅助的，包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

4213科学服务和研究工作，即真空处理流程的绘图、设计以及分析，尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延，还包括采用等离子辅助的，包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

4214科学服务和研究工作，即真空处理流程的绘图、设计以及分析，尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延，还包括采用等离子辅助的，包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

4216科学服务和研究工作，即真空处理流程的绘图、设计以及分析，尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延，还包括采用等离子辅助的，包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

4217科学服务和研究工作，即真空处理流程的绘图、设计以及分析，尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延，还包括采用等离子辅助的，包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

4218科学服务和研究工作，即真空处理流程的绘图、设计以及分析，尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延，还包括采用等离子辅助的，包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

4220科学服务和研究工作，即真空处理流程的绘图、设计以及分析，尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延，还包括采用等离子辅助的，包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

4224科学服务和研究工作，即真空处理流程的绘图、设计以及分析，尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延，还包括采用等离子辅助的，包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

4227科学服务和研究工作，即真空处理流程的绘图、设计以及分析，尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延，还包括采用等离子辅助的，包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

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基本信息

商标名称	NANOSMOOTH
申请号	G1140912	国际分类	42类-网站服务商标分类表
商标状态	已注册	申请日期	2012-12-29
申请人	Evatec AG Evatec AG 查看此申请人的商标分析报告
代理机构	国际局查看此代理机构下的所有商标
商标类型	普通商标	是否共有商标	否
专用权期限	2022-03-12至2032-03-12	国际注册日期	暂无
后期指定日期	暂无	优先权日期	暂无

商品信息

商品与服务项

【4209】科学服务和研究工作，即真空处理流程的绘图、设计以及分析，尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延，还包括采用等离子辅助的，包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备

【4210】科学服务和研究工作，即真空处理流程的绘图、设计以及分析，尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延，还包括采用等离子辅助的，包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备

【4211】科学服务和研究工作，即真空处理流程的绘图、设计以及分析，尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延，还包括采用等离子辅助的，包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备

【4212】科学服务和研究工作，即真空处理流程的绘图、设计以及分析，尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延，还包括采用等离子辅助的，包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备

【4213】科学服务和研究工作，即真空处理流程的绘图、设计以及分析，尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延，还包括采用等离子辅助的，包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备

【4214】科学服务和研究工作，即真空处理流程的绘图、设计以及分析，尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延，还包括采用等离子辅助的，包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备

【4216】科学服务和研究工作，即真空处理流程的绘图、设计以及分析，尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延，还包括采用等离子辅助的，包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备

【4217】科学服务和研究工作，即真空处理流程的绘图、设计以及分析，尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延，还包括采用等离子辅助的，包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备

【4218】科学服务和研究工作，即真空处理流程的绘图、设计以及分析，尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延，还包括采用等离子辅助的，包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备

【4220】科学服务和研究工作，即真空处理流程的绘图、设计以及分析，尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延，还包括采用等离子辅助的，包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备

【4224】科学服务和研究工作，即真空处理流程的绘图、设计以及分析，尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延，还包括采用等离子辅助的，包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备

【4227】科学服务和研究工作，即真空处理流程的绘图、设计以及分析，尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延，还包括采用等离子辅助的，包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备

申请类似群

无

未申请类似群

无

申请人信息

申请类型	企业	地区商标	圣加仑州商标注册
申请人名称	Evatec AG(Evatec AG)
申请人地址	Hauptstrasse 1a CH-9477 Trü***(Hauptstrasse 1a CH-9477 Trübbach)