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TPC
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TPC

商标无效

申请号: 81662252

申请日期: 2024-10-29

申请人: 株式会社凸版光掩模

国际分类: 40类-材料加工

服务项:

4006玻璃蚀刻;

4011印刷、凸版印刷;

4015半导体晶片的加工、半导体器件的定制生产、半导体晶片的定制生产、半导体元件的定制生产、半导体电路的定制生产;

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基本信息

商标名称 TPC
申请号 81662252 国际分类 40类-材料加工 商标分类表
商标状态 商标无效 申请日期 2024-10-29
申请人 株式会社凸版光掩模   TOPPAN PHOTOMASK CO., LTD. 查看此申请人的商标分析报告
代理机构 北京安伦知识产权代理有限公司 查看此代理机构下的所有商标
商标类型 普通商标 是否共有商标 否
专用权期限 暂无 国际注册日期 暂无
后期指定日期 暂无 优先权日期 暂无

商品信息

商品与服务项

【4006】玻璃蚀刻

【4011】印刷

【4011】凸版印刷

【4015】半导体晶片的加工

【4015】半导体器件的定制生产

【4015】半导体晶片的定制生产

【4015】半导体元件的定制生产

【4015】半导体电路的定制生产

申请类似群 无 未申请类似群 无

申请人信息

申请类型 地区商标 东京都商标注册
申请人名称 株式会社凸版光掩模(TOPPAN PHOTOMASK CO., LTD.)
申请人地址 日本东京都港区东新桥1-5-2汐留城市***(SHIODOME CITY CENTER, 1-5-2 HIGASHI-SHIMBASHI, MINATO-KU, TOKYO, JAPAN)

流程信息

2025-03-12 撤回商标注册申请-撤回商标通知书发文

2025-03-01 撤回商标注册申请-申请收文

2025-02-08 商标注册申请-驳回通知发文

2024-12-05 商标注册申请-受理通知书发文

2024-10-29 商标注册申请-申请收文

公告信息

初审公告期号 暂无 初审公告日期 暂无
注册公告期号 暂无 注册公告日期 暂无

2025-03-13 第1927期《商标注册申请撤回公告》

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