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EVATEC

已注册

申请号: G1280637

申请日期: 2018-04-05

申请人: Evatec AG

国际分类: 9类-科学仪器

服务项:

0901计算机程序,特别是用于表面调节、控制和监督及表面处理的、电子调节、控制和监督设备和仪器、用于测量振荡器晶体层厚度的光学控制器和设备,科学仪器,即用于清洁电子元件表面的芯片载体清洁器,用于真空装置中待涂覆基板初步处理或用于涂层过程辅助的等离子清洁设备;

0910真空测量设备、测量设备和控制设备,即用于测量薄层处理装置中薄层增长或薄层去除的、实验室设备和仪器,即薄层技术附件,特别是阴极溅射阴极、等离子源、阴极溅射靶、阴极溅射屏蔽板、阴极溅射掩模、真空镀金属丝、真空镀金属梭、陶瓷坩埚、基质物载体和气体导入系统、电子调节、控制和监督设备和仪器、用于测量振荡器晶体层厚度的光学控制器和设备,科学仪器,即用于清洁电子元件表面的芯片载体清洁器,用于真空装置中待涂覆基板初步处理或用于涂层过程辅助的等离子清洁设备、用于表面控制和表面处理的电子设备和仪器;

0911用于测量振荡器晶体层厚度的光学控制器和设备,科学仪器,即用于清洁电子元件表面的芯片载体清洁器,用于真空装置中待涂覆基板初步处理或用于涂层过程辅助的等离子清洁设备;

0913阴极溅射阴极、光学、电学、磁性、光谱传感器、实验室设备和仪器,即薄层技术附件,特别是阴极溅射阴极、等离子源、阴极溅射靶、阴极溅射屏蔽板、阴极溅射掩模、真空镀金属丝、真空镀金属梭、陶瓷坩埚、基质物载体和气体导入系统、用于测量涂层厚度的石英晶体;

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基本信息

商标名称 EVATEC
申请号 G1280637 国际分类 9类-科学仪器 商标分类表
商标状态 已注册 申请日期 2018-04-05
申请人 Evatec AG   Evatec AG 查看此申请人的商标分析报告
代理机构 国际局 查看此代理机构下的所有商标
商标类型 普通商标 是否共有商标 否
专用权期限 2025-05-22至2035-05-22 国际注册日期 暂无
后期指定日期 暂无 优先权日期 暂无

商品信息

商品与服务项

【0901】计算机程序,特别是用于表面调节、控制和监督及表面处理的

【0901】电子调节、控制和监督设备和仪器

【0901】用于测量振荡器晶体层厚度的光学控制器和设备,科学仪器,即用于清洁电子元件表面的芯片载体清洁器,用于真空装置中待涂覆基板初步处理或用于涂层过程辅助的等离子清洁设备

【0910】真空测量设备

【0910】测量设备和控制设备,即用于测量薄层处理装置中薄层增长或薄层去除的

【0910】实验室设备和仪器,即薄层技术附件,特别是阴极溅射阴极、等离子源、阴极溅射靶、阴极溅射屏蔽板、阴极溅射掩模、真空镀金属丝、真空镀金属梭、陶瓷坩埚、基质物载体和气体导入系统

【0910】电子调节、控制和监督设备和仪器

【0910】用于测量振荡器晶体层厚度的光学控制器和设备,科学仪器,即用于清洁电子元件表面的芯片载体清洁器,用于真空装置中待涂覆基板初步处理或用于涂层过程辅助的等离子清洁设备

【0910】用于表面控制和表面处理的电子设备和仪器

【0911】用于测量振荡器晶体层厚度的光学控制器和设备,科学仪器,即用于清洁电子元件表面的芯片载体清洁器,用于真空装置中待涂覆基板初步处理或用于涂层过程辅助的等离子清洁设备

【0913】阴极溅射阴极

【0913】光学、电学、磁性、光谱传感器

【0913】实验室设备和仪器,即薄层技术附件,特别是阴极溅射阴极、等离子源、阴极溅射靶、阴极溅射屏蔽板、阴极溅射掩模、真空镀金属丝、真空镀金属梭、陶瓷坩埚、基质物载体和气体导入系统

【0913】用于测量涂层厚度的石英晶体

申请类似群 无 未申请类似群 无

申请人信息

申请类型 企业 地区商标 圣加仑州商标注册
申请人名称 Evatec AG(Evatec AG)
申请人地址 Hauptstrasse 1a CH-9477 Trü***(Hauptstrasse 1a CH-9477 Trübbach)

流程信息

2025-06-17 国际续展-申请核准审核

2025-06-16 国际续展-申请首次实审

2025-06-09 国际续展-申请实审分文

2025-06-09 国际续展-申请收文

2025-05-21 国际删减商品-申请收文

2023-05-29 国际变更-申请核准审核

2023-05-22 国际变更-申请收文

2018-12-29 领土延伸-驳回电子发文

2018-04-05 领土延伸-申请收文

2017-09-18 国际变更-申请核准审核

2017-08-29 国际变更-申请收文

公告信息

初审公告期号 暂无 初审公告日期 暂无
注册公告期号 暂无 注册公告日期 暂无

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