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申请时间 初审时间 注册时间
STARL INE
7类-机械设备 商标无效
申请号:
G799502
申请人:Evatec AG
申请日期:2003-05-21
注册日期:暂无
最新流程: 国际注销 | 申请收文
代理机构: 国际局
服务项:

0744用于通过阴极雾化、喷雾、蒸汽阶段化学沉淀、PECVD、快速热循环手段制造半导体的机器组件;

0744用于通过阴极雾化、喷雾、蒸汽阶段化学沉淀、PECVD、快速热循环手段制造半导体的机器组件;

EVATEC
7类-机械设备 已注册
申请号:
G1280637
申请人:Evatec AG
申请日期:2018-04-05
注册日期:暂无
最新流程: 国际续展 | 申请核准审核
代理机构: 国际局
服务项:

0701机器和机床,特别是真空处理装置;

0702机器和机床,特别是真空处理装置;

0703机器和机床,特别是真空处理装置;

0704机器和机床,特别是真空处理装置;

0705机器和机床,特别是真空处理装置;

0706机器和机床,特别是真空处理装置;

0707机器和机床,特别是真空处理装置;

0708机器和机床,特别是真空处理装置;

0709机器和机床,特别是真空处理装置;

0710机器和机床,特别是真空处理装置;

0711机器和机床,特别是真空处理装置;

0712机器和机床,特别是真空处理装置;

0713机器和机床,特别是真空处理装置;

0714机器和机床,特别是真空处理装置;

0715用于真空处理装置的机器部件,即阴极喷涂阴极,等离子喷涂装置,阴极喷涂靶,阴极喷涂屏蔽板,阴极喷涂面具,真空镀金属丝,真空镀金属梭,陶瓷坩埚、机器和机床,特别是真空处理装置;

0716机器和机床,特别是真空处理装置;

0717用于生产各类仪器表面涂层,特别是眼镜片、透镜、镜子、光学或电气过滤器、建筑玻璃、太阳能电池基板或太阳能电池模块、显示基质物或模块,特别是计算机屏幕、照明层、有机发光二极管表面涂层的机器、机器和机床,特别是真空处理装置;

0718机器和机床,特别是真空处理装置;

0719机器和机床,特别是真空处理装置;

0720机器和机床,特别是真空处理装置;

0721机器和机床,特别是真空处理装置;

0722机器和机床,特别是真空处理装置;

0723机器和机床,特别是真空处理装置;

0724机器和机床,特别是真空处理装置;

0725机器和机床,特别是真空处理装置;

0726机器和机床,特别是真空处理装置;

0727机器和机床,特别是真空处理装置;

0728机器和机床,特别是真空处理装置;

0729各类覆盖装置(机器),特别是喷涂装置,用于电子轰击的喷嘴,离子束装置,离子束阴极喷涂装置,物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)的装置,阴极喷涂装置和等离子喷涂装置、各类覆盖机器,特别是用于生产薄层的覆盖机器、用于真空处理装置的机器部件,即基质物载体和气体导入系统、机器和机床,特别是真空处理装置;

0730机器和机床,特别是真空处理装置;

0731机器和机床,特别是真空处理装置;

0732机器和机床,特别是真空处理装置;

0733机器和机床,特别是真空处理装置;

0734机器和机床,特别是真空处理装置;

0735机器和机床,特别是真空处理装置;

0736机器和机床,特别是真空处理装置;

0737机器和机床,特别是真空处理装置;

0738机器和机床,特别是真空处理装置;

0739用于真空处理装置的机器部件,即基质物载体和气体导入系统、机器和机床,特别是真空处理装置;

0740机器和机床,特别是真空处理装置;

0741机器和机床,特别是真空处理装置;

0742用于真空处理装置的机器部件,即阴极喷涂阴极,等离子喷涂装置,阴极喷涂靶,阴极喷涂屏蔽板,阴极喷涂面具,真空镀金属丝,真空镀金属梭,陶瓷坩埚、用于物体表面改性的机器、各类覆盖装置(机器),特别是喷涂装置,用于电子轰击的喷嘴,离子束装置,离子束阴极喷涂装置,物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)的装置,阴极喷涂装置和等离子喷涂装置、各类覆盖机器,特别是用于生产薄层的覆盖机器、用于各类表面处理的机械工具(机械制造),用于化学和物理清洁、涂层结构化或去除及机械加工(特别是用于覆盖在真空装置中的基质物的机械处理)的机械工具(机械制造)、用于生产各类仪器表面涂层,特别是眼镜片、透镜、镜子、光学或电气过滤器、建筑玻璃、太阳能电池基板或太阳能电池模块、显示基质物或模块,特别是计算机屏幕、照明层、有机发光二极管表面涂层的机器、机器和机床,特别是真空处理装置;

0743机器和机床,特别是真空处理装置;

0744用于真空处理装置的机器部件,即阴极喷涂阴极,等离子喷涂装置,阴极喷涂靶,阴极喷涂屏蔽板,阴极喷涂面具,真空镀金属丝,真空镀金属梭,陶瓷坩埚、用于生产各类仪器表面涂层,特别是眼镜片、透镜、镜子、光学或电气过滤器、建筑玻璃、太阳能电池基板或太阳能电池模块、显示基质物或模块,特别是计算机屏幕、照明层、有机发光二极管表面涂层的机器、用于生产半导体、集成电路、集电器(电)的装置、机器和机床,特别是真空处理装置;

0745用于生产各类仪器表面涂层,特别是眼镜片、透镜、镜子、光学或电气过滤器、建筑玻璃、太阳能电池基板或太阳能电池模块、显示基质物或模块,特别是计算机屏幕、照明层、有机发光二极管表面涂层的机器、机器和机床,特别是真空处理装置;

0746用于真空处理装置的机器部件,即基质物载体和气体导入系统、机器和机床,特别是真空处理装置;

0747用于物体表面改性的机器、各类覆盖装置(机器),特别是喷涂装置,用于电子轰击的喷嘴,离子束装置,离子束阴极喷涂装置,物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)的装置,阴极喷涂装置和等离子喷涂装置、各类覆盖机器,特别是用于生产薄层的覆盖机器、机器和机床,特别是真空处理装置;

0748机器和机床,特别是真空处理装置;

0749机器和机床,特别是真空处理装置;

0750用于真空处理装置的机器部件,即阴极喷涂阴极,等离子喷涂装置,阴极喷涂靶,阴极喷涂屏蔽板,阴极喷涂面具,真空镀金属丝,真空镀金属梭,陶瓷坩埚、用于生产各类仪器表面涂层,特别是眼镜片、透镜、镜子、光学或电气过滤器、建筑玻璃、太阳能电池基板或太阳能电池模块、显示基质物或模块,特别是计算机屏幕、照明层、有机发光二极管表面涂层的机器、用于真空处理装置的机器部件,即基质物载体和气体导入系统、机器和机床,特别是真空处理装置;

0751用于真空处理装置的机器部件,即阴极喷涂阴极,等离子喷涂装置,阴极喷涂靶,阴极喷涂屏蔽板,阴极喷涂面具,真空镀金属丝,真空镀金属梭,陶瓷坩埚、机器和机床,特别是真空处理装置;

0752用于各类表面处理的机械工具(机械制造),用于化学和物理清洁、涂层结构化或去除及机械加工(特别是用于覆盖在真空装置中的基质物的机械处理)的机械工具(机械制造)、真空覆盖装置或真空酸洗装置、机器和机床,特别是真空处理装置;

0753机器和机床,特别是真空处理装置;

0754机器和机床,特别是真空处理装置;

0701机器和机床,特别是真空处理装置;

0702机器和机床,特别是真空处理装置;

0703机器和机床,特别是真空处理装置;

0704机器和机床,特别是真空处理装置;

0705机器和机床,特别是真空处理装置;

0706机器和机床,特别是真空处理装置;

0707机器和机床,特别是真空处理装置;

0708机器和机床,特别是真空处理装置;

0709机器和机床,特别是真空处理装置;

0710机器和机床,特别是真空处理装置;

0711机器和机床,特别是真空处理装置;

0712机器和机床,特别是真空处理装置;

0713机器和机床,特别是真空处理装置;

0714机器和机床,特别是真空处理装置;

0715用于真空处理装置的机器部件,即阴极喷涂阴极,等离子喷涂装置,阴极喷涂靶,阴极喷涂屏蔽板,阴极喷涂面具,真空镀金属丝,真空镀金属梭,陶瓷坩埚、机器和机床,特别是真空处理装置;

0716机器和机床,特别是真空处理装置;

0717用于生产各类仪器表面涂层,特别是眼镜片、透镜、镜子、光学或电气过滤器、建筑玻璃、太阳能电池基板或太阳能电池模块、显示基质物或模块,特别是计算机屏幕、照明层、有机发光二极管表面涂层的机器、机器和机床,特别是真空处理装置;

0718机器和机床,特别是真空处理装置;

0719机器和机床,特别是真空处理装置;

0720机器和机床,特别是真空处理装置;

0721机器和机床,特别是真空处理装置;

0722机器和机床,特别是真空处理装置;

0723机器和机床,特别是真空处理装置;

0724机器和机床,特别是真空处理装置;

0725机器和机床,特别是真空处理装置;

0726机器和机床,特别是真空处理装置;

0727机器和机床,特别是真空处理装置;

0728机器和机床,特别是真空处理装置;

0729各类覆盖装置(机器),特别是喷涂装置,用于电子轰击的喷嘴,离子束装置,离子束阴极喷涂装置,物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)的装置,阴极喷涂装置和等离子喷涂装置、各类覆盖机器,特别是用于生产薄层的覆盖机器、用于真空处理装置的机器部件,即基质物载体和气体导入系统、机器和机床,特别是真空处理装置;

0730机器和机床,特别是真空处理装置;

0731机器和机床,特别是真空处理装置;

0732机器和机床,特别是真空处理装置;

0733机器和机床,特别是真空处理装置;

0734机器和机床,特别是真空处理装置;

0735机器和机床,特别是真空处理装置;

0736机器和机床,特别是真空处理装置;

0737机器和机床,特别是真空处理装置;

0738机器和机床,特别是真空处理装置;

0739用于真空处理装置的机器部件,即基质物载体和气体导入系统、机器和机床,特别是真空处理装置;

0740机器和机床,特别是真空处理装置;

0741机器和机床,特别是真空处理装置;

0742用于真空处理装置的机器部件,即阴极喷涂阴极,等离子喷涂装置,阴极喷涂靶,阴极喷涂屏蔽板,阴极喷涂面具,真空镀金属丝,真空镀金属梭,陶瓷坩埚、用于物体表面改性的机器、各类覆盖装置(机器),特别是喷涂装置,用于电子轰击的喷嘴,离子束装置,离子束阴极喷涂装置,物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)的装置,阴极喷涂装置和等离子喷涂装置、各类覆盖机器,特别是用于生产薄层的覆盖机器、用于各类表面处理的机械工具(机械制造),用于化学和物理清洁、涂层结构化或去除及机械加工(特别是用于覆盖在真空装置中的基质物的机械处理)的机械工具(机械制造)、用于生产各类仪器表面涂层,特别是眼镜片、透镜、镜子、光学或电气过滤器、建筑玻璃、太阳能电池基板或太阳能电池模块、显示基质物或模块,特别是计算机屏幕、照明层、有机发光二极管表面涂层的机器、机器和机床,特别是真空处理装置;

0743机器和机床,特别是真空处理装置;

0744用于真空处理装置的机器部件,即阴极喷涂阴极,等离子喷涂装置,阴极喷涂靶,阴极喷涂屏蔽板,阴极喷涂面具,真空镀金属丝,真空镀金属梭,陶瓷坩埚、用于生产各类仪器表面涂层,特别是眼镜片、透镜、镜子、光学或电气过滤器、建筑玻璃、太阳能电池基板或太阳能电池模块、显示基质物或模块,特别是计算机屏幕、照明层、有机发光二极管表面涂层的机器、用于生产半导体、集成电路、集电器(电)的装置、机器和机床,特别是真空处理装置;

0745用于生产各类仪器表面涂层,特别是眼镜片、透镜、镜子、光学或电气过滤器、建筑玻璃、太阳能电池基板或太阳能电池模块、显示基质物或模块,特别是计算机屏幕、照明层、有机发光二极管表面涂层的机器、机器和机床,特别是真空处理装置;

0746用于真空处理装置的机器部件,即基质物载体和气体导入系统、机器和机床,特别是真空处理装置;

0747用于物体表面改性的机器、各类覆盖装置(机器),特别是喷涂装置,用于电子轰击的喷嘴,离子束装置,离子束阴极喷涂装置,物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)的装置,阴极喷涂装置和等离子喷涂装置、各类覆盖机器,特别是用于生产薄层的覆盖机器、机器和机床,特别是真空处理装置;

0748机器和机床,特别是真空处理装置;

0749机器和机床,特别是真空处理装置;

0750用于真空处理装置的机器部件,即阴极喷涂阴极,等离子喷涂装置,阴极喷涂靶,阴极喷涂屏蔽板,阴极喷涂面具,真空镀金属丝,真空镀金属梭,陶瓷坩埚、用于生产各类仪器表面涂层,特别是眼镜片、透镜、镜子、光学或电气过滤器、建筑玻璃、太阳能电池基板或太阳能电池模块、显示基质物或模块,特别是计算机屏幕、照明层、有机发光二极管表面涂层的机器、用于真空处理装置的机器部件,即基质物载体和气体导入系统、机器和机床,特别是真空处理装置;

0751用于真空处理装置的机器部件,即阴极喷涂阴极,等离子喷涂装置,阴极喷涂靶,阴极喷涂屏蔽板,阴极喷涂面具,真空镀金属丝,真空镀金属梭,陶瓷坩埚、机器和机床,特别是真空处理装置;

0752用于各类表面处理的机械工具(机械制造),用于化学和物理清洁、涂层结构化或去除及机械加工(特别是用于覆盖在真空装置中的基质物的机械处理)的机械工具(机械制造)、真空覆盖装置或真空酸洗装置、机器和机床,特别是真空处理装置;

0753机器和机床,特别是真空处理装置;

0754机器和机床,特别是真空处理装置;

求购
EVATEC
41类-教育娱乐 商标无效
申请号:
G1280637S
申请人:Evatec AG
申请日期:2015-12-24
注册日期:暂无
最新流程: 领土延伸 | 申请收文
代理机构: 国际局
服务项:

4101有关覆盖、酸洗、等离子处理和技术处理过程的真空装置领域的工程师和技术人员、客户培训;

4101有关覆盖、酸洗、等离子处理和技术处理过程的真空装置领域的工程师和技术人员、客户培训;

EVATEC
9类-科学仪器 商标无效
申请号:
G1280637S
申请人:Evatec AG
申请日期:2015-12-24
注册日期:暂无
最新流程: 领土延伸 | 申请收文
代理机构: 国际局
服务项:

0901光学控制器和振荡晶体层厚度测量设备,科学仪器,即用于清洁电子元件表面的芯片载体清洁器,用于预处理被涂抹在真空装置内基质物的或用于涂抹过程的等离子清洁设备、电子调节、控制和监督用具及仪器、计算机程序,特别是用于调节、控制和监督表面和表面处理的、基质物载体和气体导入系统;

0910即用于薄层技术的配件、光学控制器和振荡晶体层厚度测量设备,科学仪器,即用于清洁电子元件表面的芯片载体清洁器,用于预处理被涂抹在真空装置内基质物的或用于涂抹过程的等离子清洁设备、真空测量设备、测量设备和控制设备,即用于测量薄层处理设施内涂层增长或去除涂层的设备、用于表面控制和表面处理的电子用具及仪器、电子调节、控制和监督用具及仪器、实验室用具及仪器;

0911光学控制器和振荡晶体层厚度测量设备,科学仪器,即用于清洁电子元件表面的芯片载体清洁器,用于预处理被涂抹在真空装置内基质物的或用于涂抹过程的等离子清洁设备;

0913等离子源、用于测量涂层厚度的石英晶体、光学、电气、磁性、光谱传感器、阴极喷涂靶、特别是阴极喷涂阴极、即用于薄层技术的配件、阴极喷涂阴极、真空镀金属梭、真空镀金属丝、阴极喷涂面具、阴极喷涂屏蔽板;

0901光学控制器和振荡晶体层厚度测量设备,科学仪器,即用于清洁电子元件表面的芯片载体清洁器,用于预处理被涂抹在真空装置内基质物的或用于涂抹过程的等离子清洁设备、电子调节、控制和监督用具及仪器、计算机程序,特别是用于调节、控制和监督表面和表面处理的、基质物载体和气体导入系统;

0910即用于薄层技术的配件、光学控制器和振荡晶体层厚度测量设备,科学仪器,即用于清洁电子元件表面的芯片载体清洁器,用于预处理被涂抹在真空装置内基质物的或用于涂抹过程的等离子清洁设备、真空测量设备、测量设备和控制设备,即用于测量薄层处理设施内涂层增长或去除涂层的设备、用于表面控制和表面处理的电子用具及仪器、电子调节、控制和监督用具及仪器、实验室用具及仪器;

0911光学控制器和振荡晶体层厚度测量设备,科学仪器,即用于清洁电子元件表面的芯片载体清洁器,用于预处理被涂抹在真空装置内基质物的或用于涂抹过程的等离子清洁设备;

0913等离子源、用于测量涂层厚度的石英晶体、光学、电气、磁性、光谱传感器、阴极喷涂靶、特别是阴极喷涂阴极、即用于薄层技术的配件、阴极喷涂阴极、真空镀金属梭、真空镀金属丝、阴极喷涂面具、阴极喷涂屏蔽板;

SOLARIS
9类-科学仪器 商标无效
申请号:
G1032224
申请人:Evatec AG
申请日期:2010-04-27
注册日期:暂无
最新流程: 国际续展 | 申请核准审核
代理机构: 国际局
服务项:

0922用于生产和操作太阳能电池和太阳能电池模块的装置和设备;

0922用于生产和操作太阳能电池和太阳能电池模块的装置和设备;

EVATEC
36类-金融物管 待审中
申请号:
G1280637
申请人:Evatec AG
申请日期:2018-04-05
注册日期:暂无
最新流程: 国际续展 | 申请核准审核
代理机构: 国际局
服务项:

3602真空技术、超高真空技术和薄膜技术领域的融资咨询;

3602真空技术、超高真空技术和薄膜技术领域的融资咨询;

PLASMABOX
9类-科学仪器 已注册
申请号:
G1073217
申请人:Evatec AG
申请日期:2011-04-30
注册日期:暂无
最新流程: 国际续展 | 申请核准审核
代理机构: 国际局
服务项:

0901有关半导体产品、光电探测器、太阳能电池、平板显示器和发光装置(仪器,如等离子屏幕、气体分析仪、测量系统)材料的电气、光学和特殊特征描绘用的仪器和探测器;

0910有关半导体产品、光电探测器、太阳能电池、平板显示器和发光装置生产流程和质量检验流程的监督设备、有关半导体产品、光电探测器、太阳能电池、平板显示器和发光装置(仪器,如等离子屏幕、气体分析仪、测量系统)材料的电气、光学和特殊特征描绘用的仪器和探测器;

0911有关半导体产品、光电探测器、太阳能电池、平板显示器和发光装置(仪器,如等离子屏幕、气体分析仪、测量系统)材料的电气、光学和特殊特征描绘用的仪器和探测器;

0901有关半导体产品、光电探测器、太阳能电池、平板显示器和发光装置(仪器,如等离子屏幕、气体分析仪、测量系统)材料的电气、光学和特殊特征描绘用的仪器和探测器;

0910有关半导体产品、光电探测器、太阳能电池、平板显示器和发光装置生产流程和质量检验流程的监督设备、有关半导体产品、光电探测器、太阳能电池、平板显示器和发光装置(仪器,如等离子屏幕、气体分析仪、测量系统)材料的电气、光学和特殊特征描绘用的仪器和探测器;

0911有关半导体产品、光电探测器、太阳能电池、平板显示器和发光装置(仪器,如等离子屏幕、气体分析仪、测量系统)材料的电气、光学和特殊特征描绘用的仪器和探测器;

求购
PLASMABOX
37类-建筑修理 已注册
申请号:
G1073217
申请人:Evatec AG
申请日期:2011-04-30
注册日期:暂无
最新流程: 国际续展 | 申请核准审核
代理机构: 国际局
服务项:

3706有关的上述工厂的维护和修理、有关等离子辅助制造机器和设备,包括零件等离子处理机器和设备、光电探测器、太阳能电池、平板显示器和发光装置,如半导体装置的工厂建设;

3706有关的上述工厂的维护和修理、有关等离子辅助制造机器和设备,包括零件等离子处理机器和设备、光电探测器、太阳能电池、平板显示器和发光装置,如半导体装置的工厂建设;

求购
EVATEC
37类-建筑修理 已注册
申请号:
G1280637
申请人:Evatec AG
申请日期:2018-04-05
注册日期:暂无
最新流程: 国际续展 | 申请核准审核
代理机构: 国际局
服务项:

3706有关各类真空设备和真空生产装置的工业装配、安装、调试和维护工作;

3706有关各类真空设备和真空生产装置的工业装配、安装、调试和维护工作;

求购
EVATEC
9类-科学仪器 已注册
申请号:
G1280637
申请人:Evatec AG
申请日期:2018-04-05
注册日期:暂无
最新流程: 国际续展 | 申请核准审核
代理机构: 国际局
服务项:

0901计算机程序,特别是用于表面调节、控制和监督及表面处理的、电子调节、控制和监督设备和仪器、用于测量振荡器晶体层厚度的光学控制器和设备,科学仪器,即用于清洁电子元件表面的芯片载体清洁器,用于真空装置中待涂覆基板初步处理或用于涂层过程辅助的等离子清洁设备;

0910真空测量设备、测量设备和控制设备,即用于测量薄层处理装置中薄层增长或薄层去除的、实验室设备和仪器,即薄层技术附件,特别是阴极溅射阴极、等离子源、阴极溅射靶、阴极溅射屏蔽板、阴极溅射掩模、真空镀金属丝、真空镀金属梭、陶瓷坩埚、基质物载体和气体导入系统、电子调节、控制和监督设备和仪器、用于测量振荡器晶体层厚度的光学控制器和设备,科学仪器,即用于清洁电子元件表面的芯片载体清洁器,用于真空装置中待涂覆基板初步处理或用于涂层过程辅助的等离子清洁设备、用于表面控制和表面处理的电子设备和仪器;

0911用于测量振荡器晶体层厚度的光学控制器和设备,科学仪器,即用于清洁电子元件表面的芯片载体清洁器,用于真空装置中待涂覆基板初步处理或用于涂层过程辅助的等离子清洁设备;

0913阴极溅射阴极、光学、电学、磁性、光谱传感器、实验室设备和仪器,即薄层技术附件,特别是阴极溅射阴极、等离子源、阴极溅射靶、阴极溅射屏蔽板、阴极溅射掩模、真空镀金属丝、真空镀金属梭、陶瓷坩埚、基质物载体和气体导入系统、用于测量涂层厚度的石英晶体;

0901计算机程序,特别是用于表面调节、控制和监督及表面处理的、电子调节、控制和监督设备和仪器、用于测量振荡器晶体层厚度的光学控制器和设备,科学仪器,即用于清洁电子元件表面的芯片载体清洁器,用于真空装置中待涂覆基板初步处理或用于涂层过程辅助的等离子清洁设备;

0910真空测量设备、测量设备和控制设备,即用于测量薄层处理装置中薄层增长或薄层去除的、实验室设备和仪器,即薄层技术附件,特别是阴极溅射阴极、等离子源、阴极溅射靶、阴极溅射屏蔽板、阴极溅射掩模、真空镀金属丝、真空镀金属梭、陶瓷坩埚、基质物载体和气体导入系统、电子调节、控制和监督设备和仪器、用于测量振荡器晶体层厚度的光学控制器和设备,科学仪器,即用于清洁电子元件表面的芯片载体清洁器,用于真空装置中待涂覆基板初步处理或用于涂层过程辅助的等离子清洁设备、用于表面控制和表面处理的电子设备和仪器;

0911用于测量振荡器晶体层厚度的光学控制器和设备,科学仪器,即用于清洁电子元件表面的芯片载体清洁器,用于真空装置中待涂覆基板初步处理或用于涂层过程辅助的等离子清洁设备;

0913阴极溅射阴极、光学、电学、磁性、光谱传感器、实验室设备和仪器,即薄层技术附件,特别是阴极溅射阴极、等离子源、阴极溅射靶、阴极溅射屏蔽板、阴极溅射掩模、真空镀金属丝、真空镀金属梭、陶瓷坩埚、基质物载体和气体导入系统、用于测量涂层厚度的石英晶体;

求购
EVATEC
42类-网站服务 商标无效
申请号:
G1280637S
申请人:Evatec AG
申请日期:2015-12-24
注册日期:暂无
最新流程: 领土延伸 | 申请收文
代理机构: 国际局
服务项:

4209有关真空、推力真空技术和薄层技术领域的技术咨询、有关真空技术,特别是推力真空技术和薄层技术领域的开发和相关资料、提供借助电话和电子通讯工具获得的有关覆盖、酸洗、等离子处理和技术处理过程真空装置领域的工程信息、有关真空技术、推力真空领域的技术咨询及薄层技术研究、测量和试验技术实验室服务、物理学家服务;

4209有关真空、推力真空技术和薄层技术领域的技术咨询、有关真空技术,特别是推力真空技术和薄层技术领域的开发和相关资料、提供借助电话和电子通讯工具获得的有关覆盖、酸洗、等离子处理和技术处理过程真空装置领域的工程信息、有关真空技术、推力真空领域的技术咨询及薄层技术研究、测量和试验技术实验室服务、物理学家服务;

EVATEC
6类-金属材料 商标无效
申请号:
G1280637S
申请人:Evatec AG
申请日期:2015-12-24
注册日期:暂无
最新流程: 领土延伸 | 申请收文
代理机构: 国际局
服务项:

0602用于真空装置的金属管、导线、法兰、阀门和容器;

0605用于真空装置的金属管、导线、法兰、阀门和容器;

0612用于真空装置的金属管、导线、法兰、阀门和容器;

0613用于真空装置的金属管、导线、法兰、阀门和容器;

0602用于真空装置的金属管、导线、法兰、阀门和容器;

0605用于真空装置的金属管、导线、法兰、阀门和容器;

0612用于真空装置的金属管、导线、法兰、阀门和容器;

0613用于真空装置的金属管、导线、法兰、阀门和容器;

NANOSMOOTH
1类-化学原料 已注册
申请号:
G1140912
申请人:Evatec AG
申请日期:2012-12-29
注册日期:暂无
最新流程: 国际续展 | 申请核准审核
代理机构: 国际局
服务项:

0104玻璃、半导体、金属、陶瓷、塑料或者上述混合物质上的半导体、金属、绝缘体或者塑料或者上述混合物,如氧化物、氮化物、氧化氮化物或者碳化物上的涂料和薄涂层;

0104玻璃、半导体、金属、陶瓷、塑料或者上述混合物质上的半导体、金属、绝缘体或者塑料或者上述混合物,如氧化物、氮化物、氧化氮化物或者碳化物上的涂料和薄涂层;

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SOLARIS
37类-建筑修理 已注册
申请号:
G1032224
申请人:Evatec AG
申请日期:2010-04-27
注册日期:暂无
最新流程: 出具商标注册证明 | 核准通知书发文
代理机构: 国际局
服务项:

3706用于太阳能电池和太阳能电池模块的真空镀膜装置和生产装置以及太阳能电池和太阳能电池模块的保养和修理;

3706用于太阳能电池和太阳能电池模块的真空镀膜装置和生产装置以及太阳能电池和太阳能电池模块的保养和修理;

求购
EVATEC
40类-材料加工 商标无效
申请号:
G1280637S
申请人:Evatec AG
申请日期:2015-12-24
注册日期:暂无
最新流程: 领土延伸 | 申请收文
代理机构: 国际局
服务项:

4001有关工具和精密元件磨的损保护(材料处理)和覆盖功能服务,包括预处理和后处理、有关工具、光学和电子元件和精密制造部件的覆盖服务、有关工具、光学和电子元件和精密制造部件的表面覆盖、表面处理;

4001有关工具和精密元件磨的损保护(材料处理)和覆盖功能服务,包括预处理和后处理、有关工具、光学和电子元件和精密制造部件的覆盖服务、有关工具、光学和电子元件和精密制造部件的表面覆盖、表面处理;

EVATEC
45类-社会服务 商标无效
申请号:
G1280637S
申请人:Evatec AG
申请日期:2015-12-24
注册日期:暂无
最新流程: 领土延伸 | 申请收文
代理机构: 国际局
服务项:

4506有关真空技术,特别是推力真空技术和薄层技术领域的专利增值;

4506有关真空技术,特别是推力真空技术和薄层技术领域的专利增值;

NANOSMOOTH
42类-网站服务 已注册
申请号:
G1140912
申请人:Evatec AG
申请日期:2012-12-29
注册日期:暂无
最新流程: 国际续展 | 申请核准审核
代理机构: 国际局
服务项:

4209科学服务和研究工作,即真空处理流程的绘图、设计以及分析,尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延,还包括采用等离子辅助的,包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

4210科学服务和研究工作,即真空处理流程的绘图、设计以及分析,尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延,还包括采用等离子辅助的,包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

4211科学服务和研究工作,即真空处理流程的绘图、设计以及分析,尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延,还包括采用等离子辅助的,包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

4212科学服务和研究工作,即真空处理流程的绘图、设计以及分析,尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延,还包括采用等离子辅助的,包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

4213科学服务和研究工作,即真空处理流程的绘图、设计以及分析,尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延,还包括采用等离子辅助的,包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

4214科学服务和研究工作,即真空处理流程的绘图、设计以及分析,尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延,还包括采用等离子辅助的,包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

4216科学服务和研究工作,即真空处理流程的绘图、设计以及分析,尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延,还包括采用等离子辅助的,包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

4217科学服务和研究工作,即真空处理流程的绘图、设计以及分析,尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延,还包括采用等离子辅助的,包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

4218科学服务和研究工作,即真空处理流程的绘图、设计以及分析,尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延,还包括采用等离子辅助的,包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

4220科学服务和研究工作,即真空处理流程的绘图、设计以及分析,尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延,还包括采用等离子辅助的,包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

4224科学服务和研究工作,即真空处理流程的绘图、设计以及分析,尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延,还包括采用等离子辅助的,包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

4227科学服务和研究工作,即真空处理流程的绘图、设计以及分析,尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延,还包括采用等离子辅助的,包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

4209科学服务和研究工作,即真空处理流程的绘图、设计以及分析,尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延,还包括采用等离子辅助的,包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

4210科学服务和研究工作,即真空处理流程的绘图、设计以及分析,尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延,还包括采用等离子辅助的,包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

4211科学服务和研究工作,即真空处理流程的绘图、设计以及分析,尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延,还包括采用等离子辅助的,包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

4212科学服务和研究工作,即真空处理流程的绘图、设计以及分析,尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延,还包括采用等离子辅助的,包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

4213科学服务和研究工作,即真空处理流程的绘图、设计以及分析,尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延,还包括采用等离子辅助的,包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

4214科学服务和研究工作,即真空处理流程的绘图、设计以及分析,尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延,还包括采用等离子辅助的,包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

4216科学服务和研究工作,即真空处理流程的绘图、设计以及分析,尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延,还包括采用等离子辅助的,包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

4217科学服务和研究工作,即真空处理流程的绘图、设计以及分析,尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延,还包括采用等离子辅助的,包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

4218科学服务和研究工作,即真空处理流程的绘图、设计以及分析,尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延,还包括采用等离子辅助的,包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

4220科学服务和研究工作,即真空处理流程的绘图、设计以及分析,尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延,还包括采用等离子辅助的,包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

4224科学服务和研究工作,即真空处理流程的绘图、设计以及分析,尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延,还包括采用等离子辅助的,包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

4227科学服务和研究工作,即真空处理流程的绘图、设计以及分析,尤其是真空涂层流程比如像溅射沉积、化学气相沉积、外延,还包括采用等离子辅助的,包括用于生产和流程作业的半导体产品、设备、零部件以及真空处理设备;

求购
EVATEC
37类-建筑修理 商标无效
申请号:
G1280637S
申请人:Evatec AG
申请日期:2015-12-24
注册日期:暂无
最新流程: 领土延伸 | 申请收文
代理机构: 国际局
服务项:

3705工业安装;

3706有关真空设备和各类真空生产装置的安装、使用和维护工程、工业安装;

3718工业安装;

3705工业安装;

3706有关真空设备和各类真空生产装置的安装、使用和维护工程、工业安装;

3718工业安装;

EVATEC
1类-化学原料 待审中
申请号:
G1280637
申请人:Evatec AG
申请日期:2018-04-05
注册日期:暂无
最新流程: 国际续展 | 申请核准审核
代理机构: 国际局
服务项:

0101工业、科学用化学品,特别是用于覆盖物、薄层、金属陶瓷覆盖物和氮化钛覆盖物的;

0102工业、科学用化学品,特别是用于覆盖物、薄层、金属陶瓷覆盖物和氮化钛覆盖物的;

0103工业、科学用化学品,特别是用于覆盖物、薄层、金属陶瓷覆盖物和氮化钛覆盖物的;

0104工业、科学用化学品,特别是用于覆盖物、薄层、金属陶瓷覆盖物和氮化钛覆盖物的、旨在改变机械、化学、电气、磁性或光学属性的、用于反射、透明、传导、表面结构化或化学合成被贴附层的用于涂在表面上的薄层用的化学品、用于涂在各类仪器、眼镜镜片、透镜、镜子、光学或电气过滤器表面上的薄层用的化学品;

0106工业、科学用化学品,特别是用于覆盖物、薄层、金属陶瓷覆盖物和氮化钛覆盖物的;

0101工业、科学用化学品,特别是用于覆盖物、薄层、金属陶瓷覆盖物和氮化钛覆盖物的;

0102工业、科学用化学品,特别是用于覆盖物、薄层、金属陶瓷覆盖物和氮化钛覆盖物的;

0103工业、科学用化学品,特别是用于覆盖物、薄层、金属陶瓷覆盖物和氮化钛覆盖物的;

0104工业、科学用化学品,特别是用于覆盖物、薄层、金属陶瓷覆盖物和氮化钛覆盖物的、旨在改变机械、化学、电气、磁性或光学属性的、用于反射、透明、传导、表面结构化或化学合成被贴附层的用于涂在表面上的薄层用的化学品、用于涂在各类仪器、眼镜镜片、透镜、镜子、光学或电气过滤器表面上的薄层用的化学品;

0106工业、科学用化学品,特别是用于覆盖物、薄层、金属陶瓷覆盖物和氮化钛覆盖物的;

EVATEC
40类-材料加工 待审中
申请号:
G1280637
申请人:Evatec AG
申请日期:2018-04-05
注册日期:暂无
最新流程: 国际续展 | 申请核准审核
代理机构: 国际局
服务项:

4001有关精密工具和部件的磨损保护(材料处理)和功能涂层服务,包括预处理和后处理、有关工具、光学和电子元件以及精密制造部件的涂层服务、有关工具、光学和电子元件以及精密制造部件的表面涂层、表面处理;

4001有关精密工具和部件的磨损保护(材料处理)和功能涂层服务,包括预处理和后处理、有关工具、光学和电子元件以及精密制造部件的涂层服务、有关工具、光学和电子元件以及精密制造部件的表面涂层、表面处理;

*来源于中国商标网数据,仅供参考