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0910用于测量、监测以及控制层厚度和折射指数，包括生产薄层太阳能电池过程中层的吸收系数、粗糙度、织物组织、传导性、结构参数以及相关光学参数的设备，即，用于测量、监测以及控制生产薄层太阳能电池过程中物理参数的光学光谱反射计、光学测量仪器，即用于测量、监测以及控制绝缘处理的仪器，尤其是在生产太阳能电池的薄层光电处理流程中，上述是基于铜、铟、镓和硫磺、非晶硅、碲化镉、硫化镉、有机或者无机材料以及其他材料，即基于在绝缘处理中(排列处理)具有光学光谱射程的排列材料的镜面光谱反射的配有单个或者多个测量头的测量仪器；
0911用于测量、监测以及控制层厚度和折射指数，包括生产薄层太阳能电池过程中层的吸收系数、粗糙度、织物组织、传导性、结构参数以及相关光学参数的设备，即，用于测量、监测以及控制生产薄层太阳能电池过程中物理参数的光学光谱反射计、光学测量仪器，即用于测量、监测以及控制绝缘处理的仪器，尤其是在生产太阳能电池的薄层光电处理流程中，上述是基于铜、铟、镓和硫磺、非晶硅、碲化镉、硫化镉、有机或者无机材料以及其他材料，即基于在绝缘处理中(排列处理)具有光学光谱射程的排列材料的镜面光谱反射的配有单个或者多个测量头的测量仪器；
0913用于测量、监测以及控制层厚度和折射指数，包括生产薄层太阳能电池过程中层的吸收系数、粗糙度、织物组织、传导性、结构参数以及相关光学参数的设备，即，用于测量、监测以及控制生产薄层太阳能电池过程中物理参数的光学光谱反射计、光学测量仪器，即用于测量、监测以及控制绝缘处理的仪器，尤其是在生产太阳能电池的薄层光电处理流程中，上述是基于铜、铟、镓和硫磺、非晶硅、碲化镉、硫化镉、有机或者无机材料以及其他材料，即基于在绝缘处理中(排列处理)具有光学光谱射程的排列材料的镜面光谱反射的配有单个或者多个测量头的测量仪器；
0910用于测量、监测以及控制层厚度和折射指数，包括生产薄层太阳能电池过程中层的吸收系数、粗糙度、织物组织、传导性、结构参数以及相关光学参数的设备，即，用于测量、监测以及控制生产薄层太阳能电池过程中物理参数的光学光谱反射计、光学测量仪器，即用于测量、监测以及控制绝缘处理的仪器，尤其是在生产太阳能电池的薄层光电处理流程中，上述是基于铜、铟、镓和硫磺、非晶硅、碲化镉、硫化镉、有机或者无机材料以及其他材料，即基于在绝缘处理中(排列处理)具有光学光谱射程的排列材料的镜面光谱反射的配有单个或者多个测量头的测量仪器；
0911用于测量、监测以及控制层厚度和折射指数，包括生产薄层太阳能电池过程中层的吸收系数、粗糙度、织物组织、传导性、结构参数以及相关光学参数的设备，即，用于测量、监测以及控制生产薄层太阳能电池过程中物理参数的光学光谱反射计、光学测量仪器，即用于测量、监测以及控制绝缘处理的仪器，尤其是在生产太阳能电池的薄层光电处理流程中，上述是基于铜、铟、镓和硫磺、非晶硅、碲化镉、硫化镉、有机或者无机材料以及其他材料，即基于在绝缘处理中(排列处理)具有光学光谱射程的排列材料的镜面光谱反射的配有单个或者多个测量头的测量仪器；
0913用于测量、监测以及控制层厚度和折射指数，包括生产薄层太阳能电池过程中层的吸收系数、粗糙度、织物组织、传导性、结构参数以及相关光学参数的设备，即，用于测量、监测以及控制生产薄层太阳能电池过程中物理参数的光学光谱反射计、光学测量仪器，即用于测量、监测以及控制绝缘处理的仪器，尤其是在生产太阳能电池的薄层光电处理流程中，上述是基于铜、铟、镓和硫磺、非晶硅、碲化镉、硫化镉、有机或者无机材料以及其他材料，即基于在绝缘处理中(排列处理)具有光学光谱射程的排列材料的镜面光谱反射的配有单个或者多个测量头的测量仪器；
0901测量、监视和控制光电元件生产中涂层增加状况的设备和设施、测量、监视和控制光电元件生产的软件；
0910光电元件生产中测量物理参数的设备和设施、测量、监视和控制光电元件生产中涂层增加状况的设备和设施；
0911测量、监视和控制光电元件生产中涂层增加状况的光学感应器；
0913测量、监视和控制光电元件生产中涂层增加状况的设备和设施、测量、监视和控制光电元件生产中涂层增加状况的光学感应器；
0901测量、监视和控制光电元件生产中涂层增加状况的设备和设施、测量、监视和控制光电元件生产的软件；
0910光电元件生产中测量物理参数的设备和设施、测量、监视和控制光电元件生产中涂层增加状况的设备和设施；
0911测量、监视和控制光电元件生产中涂层增加状况的光学感应器；
0913测量、监视和控制光电元件生产中涂层增加状况的设备和设施、测量、监视和控制光电元件生产中涂层增加状况的光学感应器；
0901软件；
0910用于在半导体装置生成过程中测量物理参数和用于测量、监督以及控制涂层增长的电子装置和由其构成的设备；
0911光学传感器；
0913光学传感器；
0901软件；
0910用于在半导体装置生成过程中测量物理参数和用于测量、监督以及控制涂层增长的电子装置和由其构成的设备；
0911光学传感器；
0913光学传感器；
0910用于测量和表征电子和光电子元件制造中半导体晶片和其他薄膜样品的物理参数的电子装置和设备；
0911光学传感器；
0913用于测量和表征电子和光电子元件制造中半导体晶片和其他薄膜样品的物理参数的电子装置和设备、光学传感器；
0910用于测量和表征电子和光电子元件制造中半导体晶片和其他薄膜样品的物理参数的电子装置和设备；
0911光学传感器；
0913用于测量和表征电子和光电子元件制造中半导体晶片和其他薄膜样品的物理参数的电子装置和设备、光学传感器；
0901软件；
0910物理参数测量用电子器件以及由其装配的设备、制造半导体器件期间测量、监测和控制半导体层生长用电子器件以及由其装配的设备；
0913光学传感器；
0901软件；
0910物理参数测量用电子器件以及由其装配的设备、制造半导体器件期间测量、监测和控制半导体层生长用电子器件以及由其装配的设备；
0913光学传感器；
0901用于通过将多测量参数和其基于统计过程控制的分析结果相关联从而提高产量及改善生产过程稳定性的软件、用于在薄层沉积前、过程中和后分析及解释原位及在线测量参数的软件、用于在薄层沉积过程中控制过程偏移的软件；
0901用于通过将多测量参数和其基于统计过程控制的分析结果相关联从而提高产量及改善生产过程稳定性的软件、用于在薄层沉积前、过程中和后分析及解释原位及在线测量参数的软件、用于在薄层沉积过程中控制过程偏移的软件；
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